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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种复合集流体镀膜自适应调节间距装置
    一种复合集流体镀膜自适应调节间距装置_广东汇成真空科技股份有限公司_202411192145.6
    本发明涉及复合集流体镀膜技术领域，提出了一种复合集流体镀膜自适应调节间距装置，安装在镀膜箱体内，包括：自适应调节组件、支撑弧板和压平机构，自适应调节组件用于防止薄膜散卷，支撑弧板通过联动组件转动安装在镀膜箱体内，压平机构设置在镀膜箱体内，压...
    2024-11-16
  • 一种基于“切片法”的过渡层设计及制备方法
    一种基于“切片法”的过渡层设计及制备方法_西安赛福斯材料防护有限责任公司_202410991729.3
    本发明公开了一种基于“切片法”的过渡层设计及制备方法，该方法包括：一、将钛合金打磨抛光、清洗、烘干后置于离子镀设备内；二、将Ti靶靶面喷砂处理安装于靶座上；三、对钛合金基体进行辉光清洗；四、对钛合金基体和Ti靶进行轰击清洗；五、采用离子镀在...
    2024-11-16
  • 一种镀膜系统
    一种镀膜系统_成都中科卓尔智能科技集团有限公司_202210556982.7
    本发明涉及一种镀膜系统，包括真空室和设置于真空室的转动工装，转动工装包括可转动安装的回转部件、第一驱动模块、第二驱动模块以及若干镀膜转台；镀膜转台分别可转动的连接于旋转支架，镀膜转台分别适配回转部件，并与回转部件传动连接；旋转支架可转动的连...
    2024-11-16
  • 一种电子元件上金属图形的制作方法
    一种电子元件上金属图形的制作方法_广东省埃森塔科技有限公司_202410953130.0
    本发明涉及半导体制造技术领域，特别是一种电子元件上金属图形的制作方法，包括先清洗电子元件的基底；然后绝缘材料通过物理气相沉积工艺在基底的上表面制备绝缘层；其次通过物理刻制工艺在绝缘层刻制金属图形，形成金属图形凹槽；接着贵金属材料通过物理气相...
    2024-11-16
  • 提高X射线反射镜薄膜均匀性和生产效率的方法及装置
    提高X射线反射镜薄膜均匀性和生产效率的方法及装置_同济大学_201711007075.2
    本发明涉及一种提高X射线反射镜薄膜均匀性和生产效率的方法及装置，所述方法利用线型磁控溅射靶枪进行反射镜镀膜，通过在靶枪的溅射方向设置掩膜版调节反射镜上薄膜长度方向的膜厚均匀性，同时控制反射镜经过靶枪的速度调节反射镜的膜厚及反射镜上薄膜宽度方...
    2024-11-16
  • 一种无掩膜制备氧化锌阵列的方法
    一种无掩膜制备氧化锌阵列的方法_南京邮电大学_202410736853.5
    本申请公开了一种无掩膜制备氧化锌阵列的方法，属于半导体工艺技术领域;本申请采用磁控溅射与激光干涉相结合的方式，在磁控溅射沉积薄膜的同时，利用激光干涉在衬底表面形成图案化的光强分布，从而使衬底各位置产生与光强相对应的热梯度分布;激光通过改变表...
    2024-11-16
  • CVD方法和系统
    CVD方法和系统_北京石墨烯研究院产业发展有限公司_202411045439.6
    本发明提出了一种CVD方法及系统。所述方法包括以下步骤：步骤(1)：将衬底材料放置在CVD生长区，升温至第一温度，然后通入反应气体，所述反应气体由CVD生长区的一端流向另一端，开始CVD生长；步骤(2)：经过静态生长时间后，将衬底材料以预设...
    2024-11-16
  • 一种金属钴薄膜及其硅化物的制备方法
    一种金属钴薄膜及其硅化物的制备方法_北京超弦存储器研究院_202410986240.7
    本发明提供了一种金属钴薄膜及其硅化物的制备方法。本发明的金属钴薄膜的制备方法，包括如下步骤：S1：对硅基三维衬底进行预处理，得到预处理硅基三维衬底；S2：将预处理硅基三维衬底置于第一反应腔体中，采用第一气体作为载气，依次脉冲第一钴前驱体和第...
    2024-11-16
  • 一种适用于金刚石磨头的保护涂层
    一种适用于金刚石磨头的保护涂层_成都极星等离子科技有限公司_202410988374.2
    本发明公开了一种适用于金刚石磨头的保护涂层，包括打磨烧结后的磨头，并通过物理气相沉积技术在磨头表面沉积一层厚度100～250nm的金属涂层，其中，金属可为铬、钛或锆。在磨头表面加工一层具有玻璃晶态的金属涂层，借助玻璃晶钛具备的极高硬度和光洁...
    2024-11-16
  • 一种薄膜沉积设备及沉积方法
    一种薄膜沉积设备及沉积方法_江苏微导纳米科技股份有限公司_202410977147.X
    本发明公开了一种薄膜沉积设备及沉积方法，涉及半导体技术领域。该薄膜沉积设备包括ALD主体、铪源过滤器及铪源管路，铪源过滤器的两端与ALD主体及铪源管路分别连接；ALD主体具有沉积腔室，铪源管路通过铪源过滤器与沉积腔室连通，铪源管路用于将四氯...
    2024-11-16
  • 一种镀锌管表面钝化处理设备及其控制方法
    一种镀锌管表面钝化处理设备及其控制方法_天津君诚管道实业集团有限公司_202411410980.2
    本发明涉及镀锌管钝化技术领域，尤其是一种镀锌管表面钝化处理设备及其控制方法，包括钝化池，还包括：两个安装架，对称固定安装于所述钝化池上；支板，固定安装于两个所述安装架之间；若干目标翻转支撑组件，设置于所述支板上，用于对镀锌管进行支撑限位，并...
    2024-11-16
  • 铬镍共渗涂层及其制备方法、应用
    铬镍共渗涂层及其制备方法、应用_华能湖南岳阳发电有限责任公司_202410975833.3
    本公开提供一种铬镍共渗涂层及其制备方法、应用。其中，制备方法包括：对金属工件进行表面预处理；对预处理后的金属工件进行喷丸处理；将铬镍共渗料浆一次涂覆在喷丸处理后的金属工件表面，经烘干固化、烧结处理，在金属工件表面得到铬镍共渗涂层；其中，所述...
    2024-11-16
  • 一种高纯度靶材物理气相沉积设备
    一种高纯度靶材物理气相沉积设备_海门弘鼎电子科技有限公司_202411408087.6
    本发明涉及金属镀膜设备领域的一种高纯度靶材物理气相沉积设备，通过设置在基座上的夹持套以及安装在夹持套内的夹持圈，对基片进行过盈夹持，使得夹持套位于基片下方的腔体与基座内的冷却腔构成一个封闭腔体，然后利用进液管和回流管实现导热油的填充和循环，...
    2024-11-16
  • 一种盘式脚手架热镀锌装置
    一种盘式脚手架热镀锌装置_安徽豪鼎金属制品有限公司_202323373691.3
    本实用新型涉及热镀锌加工技术领域，且公开了一种盘式脚手架热镀锌装置，包括装置主体，所述装置主体内壁底部设置有浸液箱，所述浸液箱的后端开设有酸浸箱，所述浸液箱的前端开设有液态锌箱，所述装置主体的前端外表面开设有观察窗，所述装置主体的前端表面固...
    2024-11-16
  • 一种沉积高纯石英环的装置及方法
    一种沉积高纯石英环的装置及方法_内蒙古亨芯石英有限公司_202411422180.2
    本发明公开了一种沉积高纯石英环的装置及方法，包括沉积反应炉、燃烧器、支撑芯杆、支撑件和沉积基底；沉积反应炉内设置反应腔，沉积反应炉顶部设置开口，燃烧器固定安装在沉积反应炉的顶部；所述支撑芯杆下部设置于反应腔内，上部由沉积反应炉顶部的开口伸出...
    2024-11-16
  • 灯壳镀铝的挂载工装
    灯壳镀铝的挂载工装_曼德汽车零部件(荆门)有限公司_202323634862.3
    本实用新型公开了一种灯壳镀铝的挂载工装，包括用于对灯壳镀铝的镀铝箱，镀铝箱的内部设置有用于对灯壳夹持的夹持组件，夹持组件包括立杆和支撑板，立杆转动安装在镀铝箱的内腔中，支撑板安装在立杆的外壁，支撑板的顶部转动安装有两个驱动轴，两个驱动轴之间...
    2024-11-16
  • 一种焊带涂锡用加长风道
    一种焊带涂锡用加长风道_江苏威腾新材料科技有限公司_202323347979.3
    本实用新型提供一种焊带涂锡用加长风道，属于焊带加工技术领域，包括锡炉，所述锡炉中设置有半月轮，其特征在于，所述锡炉的上方设置有若干个呈中空结构的风道本体，若干个所述风道本体间通过连接组件可拆卸连接，且若干个所述风道本体内部连通，每个所述风道...
    2024-11-16
  • 一种超声手术刀刀头及其制备方法
    一种超声手术刀刀头及其制备方法_湖南瀚德微创医疗科技有限公司_202211223475.8
    本发明公开了一种超声手术刀刀头及其制备方法，采用超声波磁流变复合抛光、非平衡磁控溅射和深冷热处理技术的协同作用制备出具有良好光洁度、合适sp2和sp3相比例、小残余应力的刀头DLC涂层微观组织，突破了超声手术刀刀头涂层的制备技术，大幅提高超...
    2024-11-16
  • 配备有元素银和元素钌的微粒无机材料
    配备有元素银和元素钌的微粒无机材料_贺利氏贵金属有限两合公司_202380028251.8
    本发明涉及一种配备有元素银和元素钌的微粒无机材料，所述无机材料具有在50nm至40μm范围内的平均粒度(d50)以及在1m2/g至1600m2/g范围内的BET表面积。该无机材料本身选自由以下组成...
    2024-11-16
  • 一种连续生产用原子层沉积设备
    一种连续生产用原子层沉积设备_东领科技装备有限公司_202411406805.6
    本发明公开了一种连续生产用原子层沉积设备，涉及原子层沉积技术领域。本发明包括沉积设备本体，所述沉积设备本体的顶部固定安装有沉积腔室和离子清洗腔室，所述沉积腔室和所述离子清洗腔室的内部相连通，所述沉积腔室和所述离子清洗腔室的底部内壁均固定安装...
    2024-11-16
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