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一种压力控制系统、压力控制方法和沉积设备
本发明公开了一种压力控制系统、方法和沉积设备。压力控制系统包括:第一管路,第一端连接工艺腔,第二端连接抽气泵,以经由抽气泵使得工艺腔内保持低压进行晶圆吸附,并且,第一管路在靠近工艺腔和抽气泵的两端分别设有第一阀门和第三阀门;第二管路,第一端...
薄膜沉积方法、薄膜沉积设备及存储介质
本发明提供了薄膜沉积方法、薄膜沉积设备及存储介质。所述薄膜沉积方法包括以下步骤:经由PMC模块控制薄膜沉积设备的至少一个执行机构,执行薄膜沉积工艺的至少一个第一流程。所述第一流程具有较长的第一响应时间;响应于切换所述薄膜沉积工艺的第二流程的...
抽气环及其组装方法、反应腔室及薄膜沉积方法
本发明提供了抽气环及其组装方法、反应腔室及薄膜沉积方法。所述抽气环包括:内环,其上分布有的多个内抽气孔;外环,其上分布有多个外抽气孔,并经由设于外侧环状抽气管道的至少一端的抽气口连接真空泵;以及至少一个挡板,沿周向设于所述内环与所述外环之间...
一种采用PEALD制备低氧含量低电阻率的氮化钛的方法
本发明提供了一种采用PEALD制备低氧含量低电阻率的氮化钛的方法,涉及半导体工艺技术领域。通过从制样细节、本底真空度、工艺气体纯度、离子源部件以及工艺配方上进行了彻底的优化,最大限度的降低各个步骤中氧杂质的污染,最终实现了较低氧含量氮化钛薄...
一种耐等离子腐蚀的Y
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O
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复合陶瓷涂层及其制备工艺
本发明公开了一种耐等离子腐蚀的Y
2
O
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复合陶瓷涂层及其制备工艺,在提高涂层性能、延长使用寿命和降低材料成本方面均有显著优势。采用Y
2
O
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与Si的复合陶瓷...
集成外延与预清洁系统
本申请案的实施方式大体上涉及耦接到至少一个气相外延腔室的转移腔室及耦接至转移腔室的等离子体氧化物移除腔室,等离子体氧化物移除腔室包括具有混合腔室及气体分配器的盖组件;穿过盖组件的一部分形成并与混合腔室流体连通的第一气体入口;穿过盖组件的一部...
一种基片安装防偏移的速干型镀膜机
本发明涉及镀膜机技术领域,具体为一种基片安装防偏移的速干型镀膜机,包括镀膜机本体,其特征在于,所述镀膜机本体内壁中均匀设置有多个镀膜放置组件,多个所述镀膜放置组件上分别设置具有限位功能的夹持组件,所述镀膜机本体内壁底部靠近镀膜放置组件的一侧...
一种多层强瞬态力热防护涂层及其制备方法
本发明公开了一种多层强瞬态力热防护涂层及其制备方法,属于高能防护技术领域。该防护涂层包括初步吸热的高温挥发层,用于反射和散射激光的反射层,具有良好热稳定性的隔热层以及用于与目标表面强力粘附的粘结层。采用等离子喷涂方式进行涂层的制备。本发明提...
一种电磁加热式硅片镀膜炉
本实用新型公开了一种电磁加热式硅片镀膜炉,其包括圆柱形的炉体,还包括向炉体内注入反应气体的喷淋系统;所述炉体的材质为钢质材料,其外侧缠绕有电磁加热丝;所述炉体内具有圆柱形的镀膜空腔,所述镀膜空腔内安装有载具以及用于保持所述载具的姿态的保持机...
一种镀膜设备及其镀膜方法
本申请公开了一种镀膜设备及其镀膜方法,镀膜设备包括蚀刻腔室,蚀刻腔室包括用于对工件的表面进行加工的等离子源及带有门阀的蚀刻入口和带有传输阀的蚀刻出口;涂层腔室,包括用于对工件蚀刻加工后的表面进行溅射的溅射阴极及带有传输阀的涂层入口和带有门阀...
一种用于靶材加工的真空镀膜装置
本实用新型公开了一种用于靶材加工的真空镀膜装置,涉及镀膜设备技术领域,该用于靶材加工的真空镀膜装置,包括镀膜设备本体,所述镀膜设备本体的表面固定连接有储液箱,镀膜设备本体的内部固定连接有固定杆,固定杆远离镀膜设备本体的一端固定连接有镀膜组件...
蓝宝石基碲氮共掺氧化锌透明导电材料生产方法及设备
本发明涉及光电材料领域,提供一种蓝宝石基碲氮共掺氧化锌透明导电材料生产方法及设备,方法包括:通过等离子体增强原子层沉积法,在蓝宝石基底的表面依次形成多层应力调控结构,包括第一氧化锌层、锌镁氧层、第二氧化锌层以及氧化铝模板层,锌镁氧层的晶格常...
一种色相可控的高阻隔氧化铝薄膜制备方法
本发明涉及薄膜加工技术领域,尤其涉及一种色相可控的高阻隔氧化铝薄膜制备方法。本发明通过在蒸镀处理过程中,将奇数侧和偶数侧的蒸发舟进行交错排布,并通过对铝丝类型的选取以及对蒸镀送丝位置和送丝速度的控制,配合对气体种类、送气位置和送气流速的控制...
薄膜沉积设备、薄膜沉积方法及存储介质
本发明提供了一种薄膜沉积设备、一种薄膜沉积方法及一种计算机可读存储介质。所述薄膜沉积设备包括工艺腔室、第一反应源、第二反应源及气路切换机构。该工艺腔室用于容纳待加工的晶圆。该第一反应源用于提供第一反应物,经由第一气路连接所述工艺腔室,并经由...
一种水润滑复合涂层及其制备方法与应用
本发明公开了一种水润滑复合涂层及其制备方法与应用。所述水润滑复合涂层包括依次形成于基体表面的ZrN过渡层及Zr‑O‑N复合层;其中,所述Zr‑O‑N复合层具有纳米混合多晶结构,所述Zr‑O‑N复合层包括ZrN晶体及ZrO
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用于真空镀膜机的烘烤加热装置
本发明涉及真空镀膜机技术领域,具体公开了用于真空镀膜机的烘烤加热装置,包括主腔室和活动腔室,所述主腔室的顶部活动设置有活动腔室,所述主腔室和活动腔室的内部均固定设置有固定架。通过在两个固定架的内部设置加热组件,通过上下两个加热组件能够实现对...
一种钢丝热镀锌冷却装置
本实用新型公开了一种钢丝热镀锌冷却装置,涉及热镀锌钢丝处理设备技术领域,包括底筒,底筒的内部填充有冷却水,底筒的内壁转动连接有第二转辊,第二转辊的顶部设有第一转辊,底筒一侧壁的中部贯穿有进丝管,底筒另一侧壁的中部贯穿有进水管,底筒的顶端固定...
集成温控模块及其控制方法、薄膜沉积设备
本发明提供了一种集成温控模块及其控制方法、薄膜沉积设备,以及存储介质。所述集成温控模块包括:第一进口,用于获取低温流体;第二进口,用于获取高温流体;多个出口,连接薄膜沉积设备的多个模块;多根内部管道,其第一端连接对应的出口,而其第二端向所述...
一种半导体用铜引线真空磁溅射装置
本实用新型公开一种半导体用铜引线真空磁溅射装置,属于铜引线生产技术领域,包括底座,底座顶部的外侧设有真空仓,底座顶部的中间位置处并位于真空仓的内部设有电极板,电极板的顶部设有磁铁,磁铁的顶部设有靶材,靶材的底部安装有安装座,安装座的外侧设有...
镀膜用夹持结构总成及真空镀膜设备
本发明提供了一种镀膜用夹持结构总成及真空镀膜设备,镀膜装备技术领域,包括至少两个环绕基板定位空间设置的夹持单元,每个夹持单元均具有与基板的周向侧面平面贴合的夹持面,每个夹持单元均具有沿垂直于自身夹持面的方向往复移动的自由度。本发明避免了间隙...
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