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申请/专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
摘要：本发明公开了一种薄膜沉积设备及沉积方法，涉及半导体技术领域。该薄膜沉积设备包括ALD主体、铪源过滤器及铪源管路，铪源过滤器的两端与ALD主体及铪源管路分别连接；ALD主体具有沉积腔室，铪源管路通过铪源过滤器与沉积腔室连通，铪源管路用于将四氯化铪气体通入沉积腔室，铪源过滤器用于过滤四氯化铪气体中的四氯化铪颗粒。本发明提供的薄膜沉积设备能够显著提升二氧化铪薄膜的沉积品质。
主权项：1.一种薄膜沉积设备，其特征在于，包括ALD主体110、铪源过滤器120及铪源管路130，所述铪源过滤器120的两端与所述ALD主体110及所述铪源管路130分别连接；所述ALD主体110具有沉积腔室111，所述铪源管路130通过所述铪源过滤器120与所述沉积腔室111连通，所述铪源管路130用于将四氯化铪气体通入所述沉积腔室111，所述铪源过滤器120用于过滤四氯化铪气体中的四氯化铪颗粒。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 江苏微导纳米科技股份有限公司 一种薄膜沉积设备及沉积方法
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