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申请/专利权人：西安赛福斯材料防护有限责任公司
摘要：本发明公开了一种基于“切片法”的过渡层设计及制备方法，该方法包括：一、将钛合金打磨抛光、清洗、烘干后置于离子镀设备内；二、将Ti靶靶面喷砂处理安装于靶座上；三、对钛合金基体进行辉光清洗；四、对钛合金基体和Ti靶进行轰击清洗；五、采用离子镀在钛合金基体上依次交替镀覆Ti层和TiN层形成过渡层；六、在过渡层上镀覆TiN表面层。本发明基于“切片法”思想，采用离子镀方法在钛合金基体上制备由Ti层和TiN层依次交替组成的过渡层，对Ti层和TiN层的结构进行逐层设计，在钛合金基体与TiN表面层之间制备形成性能呈梯度分布的过渡层，提高膜‑基结合力，无需添加其他成分或材料，简化了制备流程，降低制备成本。
主权项：1.一种基于“切片法”的过渡层设计及制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：步骤一、将钛合金经打磨抛光除锈、清洗除油、烘干后置于离子镀设备的真空炉内作为基体；步骤二、将Ti靶靶面进行喷砂处理，且背面不进行喷砂处理，经擦拭、晾干后安装于离子镀设备的靶座上；步骤三、将离子镀设备连接氩气和氮气，然后开启离子镀设备加热并抽真空，再充入氩气对钛合金基体进行辉光清洗；步骤四、调节氩气流量，对离子镀设备内经辉光清洗后的钛合金基体和Ti靶进行轰击清洗；步骤五、采用离子镀依次在步骤四中经轰击清洗后的钛合金基体上依次交替镀覆Ti层和TiN层，其中，每个Ti层均由若干个Ti层单元组成，单个Ti层单元的镀膜时间为TTi，每个TiN层由若干个TiN层单元组成，单个TiN层单元的镀膜时间为TTiN，且按照经清洗后的钛合金基体至表面方向，各Ti层和TiN层的镀覆时间依次交替为nTTi，1TTiN，n-1TTi，2TTiN，……，1TTi，nTTiN，n为3以上的自然数，在钛合金基体上形成过渡层；步骤六、在步骤五中钛合金基体上的过渡层上镀覆TiN表面层。
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