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基于低温盐浴渗氮法制备高温耐腐蚀涂层的方法、高温耐腐蚀涂层及应用
本公开提供一种基于低温盐浴渗氮法制备高温耐腐蚀涂层的方法、高温耐腐蚀涂层及应用,属于材料表面涂层技术领域。方法包括:对工件进行预热处理;将预热处理后的工件埋入盐浴原料中,在400~500℃下进行盐浴渗氮处理6~12h,在工件表面形成富氮高温...
一种大容量热丝CVD金刚石涂层设备
本实用新型涉及热丝CVD金刚石涂层技术领域,且公开了一种大容量热丝CVD金刚石涂层设备,包括反应腔室,所述反应腔室的顶部设置有反应气管,所述反应腔室的内部设置有圆柱形基台,所述圆柱形基台的内侧均匀遍布有多个刀具基体,所述圆柱形基台的内部设置...
一种高灵敏度VLEED自旋分析器靶材的原位制备方法
本发明涉及一种高灵敏度VLEED自旋分析器靶材的原位制备方法,包括:使用分子束外延或磁控溅射技术原位真空制备表面原子级平整的高自旋极化率半金属磁性薄膜靶材,如Co
2
FeAl和Fe
3
O
4<...
用于溅射系统的重质玻璃托盘
本发明公开了用于溅射系统的重质玻璃托盘,涉及溅射技术用装置领域,包括溅射工作腔体,溅射工作腔体一侧设置有控制器,溅射工作腔体内部设置有工作台,工作台顶面设置有托盘组件,托盘组件一侧设置有移动组件,托盘组件包括滑动连接于工作台顶面的底板,底板...
一种设备零部件表面镀膜装置
本实用新型公开了一种设备零部件表面镀膜装置,包括真空镀膜机主体,所述真空镀膜机主体的顶端安装有密封罩,所述真空镀膜机主体内部的顶端安装有预清洁箱,且预清洁箱内部的两侧均安装有吸尘管,所述吸尘管的一端均延伸至真空镀膜机主体的外部并与外部吸尘设...
一种多室连续光学镀膜机
本发明公开了一种多室连续光学镀膜机,属于光学镀膜技术领域,解决了现有工装夹具中正反丝杆与夹板无法控制基片完成旋转动作,同时工作夹具无法对异形基材进行夹持固定,从而使得薄膜厚度和均匀性无法保证的问题,包括:镀膜机体、基材承托机构、连续送料组件...
带有超导磁体的等离子体CVD装置
本发明公开了一种带有超导磁体的等离子体CVD装置腔体的顶部设有超导磁体,超导磁体包括与变频电源相连的超导线圈及低温装置,超导线圈的上端呈圆筒形,下端向外扩展形成上小下大的喇叭形,腔体与超导磁体之间设有绝缘顶板;腔体内设有基材台,基材台与腔体...
一种金刚石铜基复合材料及其制备方法
本发明涉及一种金刚石铜基复合材料及其制备方法。所述方法包括如下步骤:通过电感耦合等离子体法或阳极层离子源照射方式对金刚石粉末进行处理,得到粗糙化金刚石粉末;通过等离子体增强原子层沉积方法在所述粗糙化金刚石粉末的表面制备第一镀覆层,然后在第一...
一种加工罗茨鼓风机叶片的表面镀锡设备及方法
本发明属于镀锡设备技术领域,尤其是一种加工罗茨鼓风机叶片的表面镀锡设备及方法,针对罗茨鼓风机的叶片容易被沾染油污、锈蚀、氧化物和其他污染物时,不经处理,镀锡后锡层容易脱落的问题,现提出以下方案,包括承载板,所述承载板的上表面靠近两端处均通过...
透明电磁屏蔽抗摩擦复合膜及其制备方法
本发明提供了一种透明电磁屏蔽抗摩擦复合膜及其制备方法,属于光学薄膜制备领域,具体包括将样品基底放入镀膜机样品架上抽真空,当真空度达到5.0×10
‑4
Pa时,对样品基底进行离子清洗预处理;清洗完成后,待真空度稳定在3.0...
溅镀上下料设备
本发明涉及溅镀设备技术领域,特别是涉及一种溅镀上下料设备,包括溅镀上料缓存机构;溅镀盖取治具机构,与所述溅镀上料缓存机构连接,用于将溅镀后的产品上的治具取下,并将治具盖于待溅镀的产品上;分选打标签机构,与所述溅镀盖取治具机构连接,用于对溅镀...
具有Al涂层的扁钢产品、其生产方法、钢构件及其生产方法
本发明涉及一种钢构件,其由钢基体和涂覆在该钢基体上的Al基保护涂层组成,钢基体由含有0.1重量%至3重量%的Mn和任选的至多0.01重量%的B的钢组成。保护涂层具有不计铁和锰的质量比为至多30%的额外合金成分。保护涂层中作为额外合金成分的S...
一种复合集流体镀膜自适应调节间距装置
本发明涉及复合集流体镀膜技术领域,提出了一种复合集流体镀膜自适应调节间距装置,安装在镀膜箱体内,包括:自适应调节组件、支撑弧板和压平机构,自适应调节组件用于防止薄膜散卷,支撑弧板通过联动组件转动安装在镀膜箱体内,压平机构设置在镀膜箱体内,压...
一种基于“切片法”的过渡层设计及制备方法
本发明公开了一种基于“切片法”的过渡层设计及制备方法,该方法包括:一、将钛合金打磨抛光、清洗、烘干后置于离子镀设备内;二、将Ti靶靶面喷砂处理安装于靶座上;三、对钛合金基体进行辉光清洗;四、对钛合金基体和Ti靶进行轰击清洗;五、采用离子镀在...
一种电子元件上金属图形的制作方法
本发明涉及半导体制造技术领域,特别是一种电子元件上金属图形的制作方法,包括先清洗电子元件的基底;然后绝缘材料通过物理气相沉积工艺在基底的上表面制备绝缘层;其次通过物理刻制工艺在绝缘层刻制金属图形,形成金属图形凹槽;接着贵金属材料通过物理气相...
提高X射线反射镜薄膜均匀性和生产效率的方法及装置
本发明涉及一种提高X射线反射镜薄膜均匀性和生产效率的方法及装置,所述方法利用线型磁控溅射靶枪进行反射镜镀膜,通过在靶枪的溅射方向设置掩膜版调节反射镜上薄膜长度方向的膜厚均匀性,同时控制反射镜经过靶枪的速度调节反射镜的膜厚及反射镜上薄膜宽度方...
一种无掩膜制备氧化锌阵列的方法
本申请公开了一种无掩膜制备氧化锌阵列的方法,属于半导体工艺技术领域;本申请采用磁控溅射与激光干涉相结合的方式,在磁控溅射沉积薄膜的同时,利用激光干涉在衬底表面形成图案化的光强分布,从而使衬底各位置产生与光强相对应的热梯度分布;激光通过改变表...
CVD方法和系统
本发明提出了一种CVD方法及系统。所述方法包括以下步骤:步骤(1):将衬底材料放置在CVD生长区,升温至第一温度,然后通入反应气体,所述反应气体由CVD生长区的一端流向另一端,开始CVD生长;步骤(2):经过静态生长时间后,将衬底材料以预设...
一种金属钴薄膜及其硅化物的制备方法
本发明提供了一种金属钴薄膜及其硅化物的制备方法。本发明的金属钴薄膜的制备方法,包括如下步骤:S1:对硅基三维衬底进行预处理,得到预处理硅基三维衬底;S2:将预处理硅基三维衬底置于第一反应腔体中,采用第一气体作为载气,依次脉冲第一钴前驱体和第...
一种适用于金刚石磨头的保护涂层
本发明公开了一种适用于金刚石磨头的保护涂层,包括打磨烧结后的磨头,并通过物理气相沉积技术在磨头表面沉积一层厚度100~250nm的金属涂层,其中,金属可为铬、钛或锆。在磨头表面加工一层具有玻璃晶态的金属涂层,借助玻璃晶钛具备的极高硬度和光洁...
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