龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：深圳瑞沃微半导体科技有限公司
摘要：本申请提供了一种芯片光刻制程的工艺方法，相对于现有技术中的光刻制程需使用菲林作为掩膜，存在对位误差或菲林偏移等问题，本申请提供了从芯片背面曝光的解决方案，具体为：在所述电极的表面涂覆感光材料，并从所述电极的背部进行曝光和显影；将所述电极表面的所述感光材料去除；通过增材制造方式使所述电极沿竖直方向生长至预设高度。通过透明半导体材料在光刻制程工艺中，利用金属电极或线路的自身遮光性，从芯片背面进行曝光，实现了免菲林、自对准的精确光刻制程工艺方法，利用芯片电极自身作为掩膜，不存在对位偏差，曝光精确度高，并且免用菲林，减少了工艺环节，降低了制作成本。
主权项：1.一种芯片光刻制程的工艺方法，用于对透明半导体材料的芯片进行光刻处理，所述芯片的一侧设有电极，其特征在于，包括步骤：在所述电极的表面涂覆感光材料，并从所述电极的背部进行曝光和显影；将所述电极表面的所述感光材料去除；通过增材制造方式使所述电极沿竖直方向生长至预设高度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳瑞沃微半导体科技有限公司 一种芯片光刻制程的工艺方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号