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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种显影盒
    一种显影盒_珠海益之印科技有限公司_202380028930.5
    本发明公开了一种显影盒，该显影盒能够可拆卸地安装于成像设备的主组件中。本发明公开的一些实施例中，显影盒包括：盒体；驱动力接收单元，包括联接件，设置在显影盒的第一端，能够从成像设备接收驱动力；驱动构件，设置在显影盒的第一端，能够接收驱动力而移...
    2024-11-15
  • 遮光板、照相机单元、电子仪器以及遮光板的制造方法
    遮光板、照相机单元、电子仪器以及遮光板的制造方法_凸版印刷株式会社_202080050797.X
    具有：表面，其位于光的入射侧；背面，其是表面的相反侧的面；以及孔，其将表面与背面之间贯通。孔具有：第1孔部分；以及第2孔部分，其在中央开口与第1孔部分连接，第1孔部分从背面的背面开口延伸至中央开口，具有从背面朝向表面而前端缩细的形状。第2孔...
    2024-11-15
  • 掩膜版及其形成方法
    掩膜版及其形成方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202411415184.8
    本申请公开了掩膜版及其形成方法，该掩膜版包括：透明基板；掩膜图形层，位于所述透明基板的表面，包括用于形成器件结构的芯片区和在所述芯片区之外设置的用于形成对位标记的标记区；其中，所述标记区的遮光率根据所述标记区所布局图形的线宽确定，所述标记区...
    2024-11-15
  • 透射式滤波器及其制备方法、EUV光刻机
    透射式滤波器及其制备方法、EUV光刻机_四川禾丰光芯科技有限公司_202410591508.7
    本发明公开了一种透射式滤波器及其制备方法、EUV光刻机。透射式滤波器包括一个或多个滤波器单元，每个滤波器单元包括：衬基框架，包围中心开口；支撑层，跨越所述中心开口支撑在所述衬基框架上；滤波层，设置在所述支撑层上，所述滤波层包括形成在所述中心...
    2024-11-15
  • 选择与衬底上的测量或特征相关联的部位的集合
    选择与衬底上的测量或特征相关联的部位的集合_ASML荷兰有限公司_202110630682.4
    本发明提供一种选择衬底上用于测量或特征的部位的最优集合的方法，该方法包括：(302)：限定约束条件，并且可选地限定成本函数。(306)：限定部位的第一候选方案。(308)：基于对所述第一候选方案的方案域中的坐标的修改，限定具有部位的第二候选...
    2024-11-15
  • 一种柔性双驱动推拉式高功率足部能量采集器
    一种柔性双驱动推拉式高功率足部能量采集器_苏州欧伏安电子科技有限公司_202410971401.5
    本发明公开了一种柔性双驱动推拉式高功率足部能量采集器，包括：液压驱动机构，与液压驱动机构固定连接的发电机构，以及采集模组，液压驱动机构包括若干液压泵组；液压泵组采用橡胶材质制成，液压泵组内部呈密封设置，液压泵组分别对称设置于发电机构的前后两...
    2024-11-15
  • 一种耗材芯片及耗材盒
    一种耗材芯片及耗材盒_极海微电子股份有限公司_202323397561.3
    本实用新型公开一种耗材芯片及耗材盒，涉及打印成像技术领域。该耗材芯片存储有制造商信息和改写后的版权信息，其中，改写后的版权信息与打印设备的制造商写入原装芯片中的版权信息不同；耗材芯片在安装到打印设备时，响应于打印设备的读取请求将制造商信息和...
    2024-11-15
  • 工业相机以及固定支架
    工业相机以及固定支架_台达电子工业股份有限公司_202420684931.7
    本申请提供一种工业相机以及固定支架，固定支架用以定位多个电路板。前述固定支架包括一主体、多个支撑柱、至少一固定柱、以及二容置空间。支撑柱设置于主体上。固定柱设置于主体上且具有一凹槽，凹槽与主体相隔一距离，且凹槽用以供电路板的一者插设。容置空...
    2024-11-15
  • 一种光谱防伪相机系统
    一种光谱防伪相机系统_苏州优印佳防伪科技有限公司_202411165636.1
    本发明公开了一种光谱防伪相机系统，包括多谱光源，多段滤片组件，全谱相机，显示屏和控制器，该全谱相机的镜头端设有多段滤片组件，该多段滤片组件的另一侧设有多谱光源，该多段滤片组件为三组可旋转调节的多段滤片和用于调节三组多段滤片的传动组件组成，本...
    2024-11-15
  • 室外摄像机腔体补光设备
    室外摄像机腔体补光设备_宁波硕迪智能科技有限公司_202410911281.X
    本发明涉及摄像设备技术领域，且公开了室外摄像机腔体补光设备，包括机身、遮光板，遮光板固定安装在机身上，机身下方设置有可伸缩的补光模组，补光模组根据其结构伸缩长度的变化改变其补光范围及光照软硬度，补光模组内部设置有气腔，气腔内壁上设置有反光层...
    2024-11-15
  • 可降低对光刻机性能要求的版图掩膜处理方法、光刻方法
    可降低对光刻机性能要求的版图掩膜处理方法、光刻方法_深圳国微福芯技术有限公司_202410967917.2
    本发明公开了一种可降低对光刻机性能要求的版图掩膜处理方法、光刻方法。其中可降低对光刻机最小分辨率性能要求的版图掩膜处理方法，包括：步骤1，对设计版图中的几何图形的关键尺寸以及分布特征进行分析，并从中提取出适合进行DSA工艺处理的局部版图作为...
    2024-11-15
  • 硬掩模组合物、硬掩模层和形成图案的方法
    硬掩模组合物、硬掩模层和形成图案的方法_三星SDI株式会社_202410560027.X
    一种硬掩模组合物、由所述硬掩模组合物制造的硬掩模层以及使用由所述硬掩模组合物制造的硬掩模层形成一个或多个图案的方法，所述硬掩模组合物包含：聚合物，包括由化学式1表示的结构单元；以及溶剂，[化学式1] 2024-11-15
  • 光掩膜承载盒以及光掩膜装置的承载及清洁方法
    光掩膜承载盒以及光掩膜装置的承载及清洁方法_台湾积体电路制造股份有限公司_202411209323.1
    本发明实施例提供一种光掩膜承载盒用以承载光掩膜装置，光掩膜承载盒包括壳体以及抽气装置。壳体包括容置空间、进气孔以及抽气口，光掩膜装置设置于容置空间内，且进气孔经配置以将清洁气体注入壳体的容置空间内。抽气装置设置于壳体上，以对容置空间进行抽气...
    2024-11-15
  • 将图案形成装置与衬底进行空间对准的方法
    将图案形成装置与衬底进行空间对准的方法_ASML荷兰有限公司_202380031198.7
    描述了一种将图案形成装置与衬底进行空间对准的方法，其中，所述图案形成装置和所述衬底由包括一个或更多个可移动光学部件的光学路径分开，所述方法包括：‑执行多次对准测量，其中对于每次对准测量，所述可移动光学部件被布置在对应的预定位置中，‑组合所述...
    2024-11-15
  • 照明系统及投影装置
    照明系统及投影装置_中强光电股份有限公司_202110451093.X
    本发明提出一种照明系统及投影装置，照明系统用以提供照明光束，照明系统包括光源模块、第一波长转换装置以及第二波长转换装置。光源模块提供第一激发光束以及第二激发光束。第一波长转换装置设置于第一激发光束的路径上并具有多个第一区域以及两两相邻的第一...
    2024-11-15
  • OPC模型的建立方法和装置、光学邻近修正方法和设备、存储介质
    OPC模型的建立方法和装置、光学邻近修正方法和设备、存储介质_浙江创芯集成电路有限公司_202411231854.0
    一种OPC模型的建立方法和装置、光学邻近修正方法和设备、存储介质，所述建立方法包括：形成半导体结构，所述半导体结构具有经刻蚀层；通过量测机台，对所述经刻蚀层进行量测，获得刻蚀后量测值；将所述刻蚀后量测值转换为对应的显影后量测值；根据所述显影...
    2024-11-15
  • 一种新媒体图像数字投影装置
    一种新媒体图像数字投影装置_唐山师范学院_202411293643.X
    本发明公开了投影装置技术领域的一种新媒体图像数字投影装置，包括外壳，所述壳体内部中间固定安装有水平检测仪，所述外壳正前方开设有镜头卡口，所述镜头卡口中固定安装有防尘片，所述镜头卡口正后方固定安装有调节器，通过在外壳正前方的镜头卡口正后方安装...
    2024-11-15
  • 晶片间叠加前馈控制及批次间反馈控制的系统及方法
    晶片间叠加前馈控制及批次间反馈控制的系统及方法_科磊股份有限公司_202180009170.4
    公开一种叠加控制系统。在实施例中，所述系统可包含控制器，所述控制器经配置以：基于记录计划(POR)取样图在至少一个先前批次样本的样本的第二层上获取一组反馈叠加测量值；基于所述组反馈叠加测量值产生参考晶片叠加图；基于前馈取样图在当前批次样本的...
    2024-11-15
  • 掩模板的图案修正方法及其系统
    掩模板的图案修正方法及其系统_合肥晶合集成电路股份有限公司_202411413726.8
    本公开提供了一种掩模板的图案修正方法及其系统，该图案修正方法包括：获取目标图案；对目标图案的光刻图案进行光学临近修正；判断沿第一方向相邻的光刻图案的间距是否小于预设距离，若判断结果为否，输出光刻图案；以及若判断结果为是，沿第二方向在目标图案...
    2024-11-15
  • 一种提升套刻精度的方法
    一种提升套刻精度的方法_上海华力集成电路制造有限公司_202411146988.2
    本申请提供一种提升套刻精度的方法，包括：步骤一，通过0层光刻工艺制备0层光刻胶图形；步骤二，通过0层刻蚀工艺在晶圆上制备OVL mark最终图形；步骤三，通过1层光刻工艺制备1层光刻胶图形；步骤四，对上述步骤制备出的完整OVL mark进行...
    2024-11-15
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