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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：描述了一种将图案形成装置与衬底进行空间对准的方法，其中，所述图案形成装置和所述衬底由包括一个或更多个可移动光学部件的光学路径分开，所述方法包括：‑执行多次对准测量，其中对于每次对准测量，所述可移动光学部件被布置在对应的预定位置中，‑组合所述对准测量，以及‑基于所述对准测量的组合，将所述图案形成装置与所述衬底进行空间对准。
主权项：1.一种将图案形成装置与衬底进行空间对准的方法，其中，所述图案形成装置和所述衬底由包括一个或更多个可移动光学部件的光学路径分开，所述方法包括：-执行多次对准测量，其中，对于每次对准测量，所述可移动光学部件被布置在对应的预定位置中，-组合所述对准测量，以及-基于所述对准测量的组合，将所述图案形成装置与所述衬底进行空间对准。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 将图案形成装置与衬底进行空间对准的方法
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