龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：浙江创芯集成电路有限公司
摘要：一种OPC模型的建立方法和装置、光学邻近修正方法和设备、存储介质，所述建立方法包括：形成半导体结构，所述半导体结构具有经刻蚀层；通过量测机台，对所述经刻蚀层进行量测，获得刻蚀后量测值；将所述刻蚀后量测值转换为对应的显影后量测值；根据所述显影后量测值，建立OPC模型。所述经刻蚀层中图形的轮廓清晰度更高，量测机台所获得的刻蚀后量测值准确度更高、精度更高，以刻蚀后量测值转换而得的显影后量测值为基础所建立的OPC模型的误差更小、精度更高，有利于降低光学邻近修正方法的误差，提高修正精度。
主权项：1.一种OPC模型的建立方法，其特征在于，包括：形成半导体结构，所述半导体结构具有经刻蚀层；通过量测机台，对所述经刻蚀层进行量测，获得刻蚀后量测值；将所述刻蚀后量测值转换为对应的显影后量测值；根据所述显影后量测值，建立OPC模型。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江创芯集成电路有限公司 OPC模型的建立方法和装置、光学邻近修正方法和设备、存储介质
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号