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申请/专利权人：三星SDI株式会社
摘要：一种硬掩模组合物、由所述硬掩模组合物制造的硬掩模层以及使用由所述硬掩模组合物制造的硬掩模层形成一个或多个图案的方法，所述硬掩模组合物包含：聚合物，包括由化学式1表示的结构单元；以及溶剂，[化学式1]。
主权项：1.一种硬掩模组合物，包含：聚合物，包括由化学式1表示的结构单元；以及溶剂，[化学式1] 其中在化学式1中，Ar1是经取代或未经取代的C6到C30芳族烃基、经取代或未经取代的C3到C30杂芳族基、或者其中两个或更多个经取代或未经取代的C6到C30芳族烃基、两个或更多个经取代或未经取代的C3到C30杂芳族基或其组合通过单键或者经取代或未经取代的C1到C10亚烷基进行连接的基团，R1到R4各自独立地为氢、氘、经取代或未经取代的C1到C20饱和或不饱和脂族烃基、经取代或未经取代的C3到C20饱和或不饱和脂环族烃基、经取代或未经取代的C6到C30芳族烃基或其组合，限制条件是R1与R2不同时为氢且R3与R4不同时为氢，且X是由化学式2表示的基团：[化学式2] 在化学式2中，Ar2和Ar3各自独立地为经取代或未经取代的C6到C30芳族烃基，M1和M2各自独立地为-O-、-S-、-S＝O-、-SO2-、-NRa-，其中Ra是氢、经取代或未经取代的C1到C10烷基、或者经取代或未经取代的C6到C20芳基或其组合，Z是群组1中的基团，n1是1到30的整数，n2是0或1，且*是连接点，[群组1]
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三星SDI株式会社 硬掩模组合物、硬掩模层和形成图案的方法
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