首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
  • 我要求购
  • 我要出售
官方微信客服

官方微信客服
官方微信客服

官方微信客服
摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 带有弹性套的驱动力接收组件、感光鼓组件及处理盒
    带有弹性套的驱动力接收组件、感光鼓组件及处理盒_珠海天威飞马打印耗材有限公司_202411026045.6
    本发明提供一种带有弹性套的驱动力接收组件、感光鼓组件及处理盒，该驱动力接收组件包括底座；该驱动力接收组件还包括有沿联轴件轴向延伸的第一凸柱，第一凸柱外套设有弹性套，沿联轴件的周向，弹性套的第一侧形成驱动力接收面，弹性套的第二侧形成制动力接收...
    2024-11-10
  • 色粉容器
    色粉容器_京瓷办公信息系统株式会社_202411294267.6
    色粉容器具备容器和盖。在所述容器中，设置有用于填充色粉的筒状的填充口。所述盖具有堵塞所述填充口的可挠性。所述盖具备嵌合部、底部和凸缘部。所述嵌合部被设为与所述填充口的内表面嵌合的筒状。所述底部设置在所述嵌合部的盖安装方向里侧。所述凸缘部设置...
    2024-11-10
  • 显影装置
    显影装置_佳能株式会社_202010025636.7
    本发明涉及显影装置。本发明实现了如下构造，在最小化对磁极的设计自由度的影响的同时，以低成本抑制与调节刮刀(9)相对的显影剂调节极的调节刮刀(9)附近的磁通密度分布的改变。显影套筒的外周面上的、显影套筒的外周面的法线方向上的磁通密度最大的位置...
    2024-11-10
  • OMOG光掩模的制造方法
    OMOG光掩模的制造方法_上海传芯半导体有限公司_202411140685.X
    一种OMOG光掩模的制造方法，包括以下步骤：提供透明基板；在透明基板上依次交替沉积硅层和钼层，形成钼硅堆叠层；对钼硅堆叠层进行图案化的激光或电子束直写扫描，使被激光或电子束扫描的区域内的钼层中的Mo原子完全移动到硅层中形成图案化的钼硅化物层...
    2024-11-10
  • 负性光刻胶组合物、制备方法及形成光刻胶图案的方法
    负性光刻胶组合物、制备方法及形成光刻胶图案的方法_潍坊星泰克微电子材料有限公司_202111476489.6
    本发明提供了一种负性光刻胶组合物、制备方法及应用和形成光刻胶图案的方法，具体涉及光刻胶技术领域。该负性光刻胶组合物包括高硅树脂和光敏产酸剂。高硅树脂和光敏产酸剂的质量比为10‑70:0.5‑10。本发明提供的负性光刻胶组合物，使用具有良好化...
    2024-11-10
  • 工业胶片悬挂式冲洗机
    工业胶片悬挂式冲洗机_苏州市德力影像设备科技有限公司_202420598167.1
    本实用新型公开了工业胶片悬挂式冲洗机，涉及工业胶片冲洗设备技术领域，包括冲洗箱主体、喂片机构、吊架机构和晾片机构，所述冲洗箱主体一端安装有喂片机构,所述冲洗箱主体一端安装有吊架机构,所述吊架机构一端安装有片机构。本实用新型通过设置的冲洗箱主...
    2024-11-10
  • 一种时延显影盒
    一种时延显影盒_珠海市拓佳科技有限公司_202411132501.5
    本发明公开了一种时延显影盒，包括：盒体；动力接收件，转动设置在盒体长度方向的第一端，动力接收件用于接收来自于成像装置的动力；触发装置，设置在盒体上，动力接收件能够将来自于成像装置的动力传递给触发装置；开关组件，设置在盒体上，当触发装置接收到...
    2024-11-10
  • 感光构件单元、盒和电子照相成像设备
    感光构件单元、盒和电子照相成像设备_佳能株式会社_202411312323.4
    本公开提供了一种感光构件单元，成像设备包括能够同轴旋转的第一主组件侧斜齿轮部分和第二主组件侧斜齿轮部分，感光构件单元包括：能够围绕其旋转轴线旋转的感光构件；第一单元侧斜齿轮部分；以及第二单元侧斜齿轮部分，其中第二单元侧斜齿轮部分的齿的扭转方...
    2024-11-10
  • 光学邻近修正方法
    光学邻近修正方法_长鑫存储技术有限公司_202310454237.6
    本公开提供了一种光学邻近修正方法，涉及半导体技术领域。该方法包括：获取初始掩膜版；对所述初始掩膜版进行OPC处理，得到目标掩膜版，以利用所述目标掩膜版进行半导体结构的制备，其中，所述OPC处理包括以下至少一种：将初始掩膜版对应的掩膜类型由P...
    2024-11-10
  • 半导体光刻模拟方法、装置和电子设备
    半导体光刻模拟方法、装置和电子设备_长鑫存储技术有限公司_202310453703.9
    本申请提供一种半导体光刻模拟方法、装置和电子设备，获取目标图形，根据目标图形设计掩模图形，而后模拟曝光信息透过掩模图形作用于晶圆的光刻胶层且经过光刻胶层后作用于晶圆的底层时底层的反射，还模拟光刻胶层在曝光信息以及底层的反射二者的作用下形成的...
    2024-11-10
  • 处理盒
    处理盒_珠海三润精密制造有限公司_202223427815.7
    本实用新型涉及可拆卸地安装在设置有电力输出件的成像设备中的处理盒，该处理盒包括第一单元壳体、可旋转地设置在第一单元壳体中的显影件和供应件以及与显影件接触的调整件，显影件沿第一方向延伸，第一单元壳体中存储有显影剂，供应件用于将显影剂向着显影件...
    2024-11-10
  • 废碳粉侦测装置
    废碳粉侦测装置_上福全球科技股份有限公司_202010104245.4
    本发明是一种废碳粉侦测装置，包含有搅拌杆、传动件、旋臂、以及标志件，搅拌杆用来搅拌废碳粉，传动件能基于搅拌杆的旋转负荷而沿着搅拌杆的轴线在传动位置与脱离位置之间移动，当传动件位于传动位置时能传送旋转至搅拌杆，当传动件位于脱离位置时不能传送旋...
    2024-11-10
  • 一种粉辊轴及粉末开关
    一种粉辊轴及粉末开关_浙江正向增材制造有限公司_202420341218.2
    本实用新型公开了一种粉辊轴及粉末开关，粉辊轴包括粉辊轴本体，所述粉辊轴本体上形成有粉末计量部，靠近所述粉末计量部的两端分别形成有环形槽，所述环形槽沿所述粉辊轴本体径向环绕。粉末开关包括粉辊轴、壳体和轴承，所述壳体上形成有进粉口和出粉口，所述...
    2024-11-10
  • 图像形成装置
    图像形成装置_佳能株式会社_202210392997.4
    本发明公开了一种图像形成装置。所述图像形成装置包括框架、顶板盖和螺钉，所述顶板盖可从框架移除并具有构成图像形成装置的顶面的一部分的顶面部。所述框架包括与顶面部相对的上表面部、相对于上表面部设置在前侧的前表面部、以及相对于上表面部设置在后侧并...
    2024-11-10
  • 一种激光打印机用碳粉盒灌粉装置
    一种激光打印机用碳粉盒灌粉装置_珠海盛泰数码科技有限公司_202420551243.3
    本实用新型公开了一种激光打印机用碳粉盒灌粉装置，包括碳粉盒组件，碳粉盒组件内部设置有可保持轴向转动的灌粉组件，灌粉组件一侧端部突出于碳粉盒组件，灌粉组件突出于碳粉盒组件的端部与外界保持相通，灌粉组件的外壁围绕设置有搅拌扇叶，各个搅拌扇叶的外...
    2024-11-10
  • 用于EUV光刻的表膜
    用于EUV光刻的表膜_ASML荷兰有限公司_202380031199.1
    用于EUV光刻的表膜包括：芯部层，所述芯部层包括硅且具有至少一个非氧化表面；和盖层，所述盖层位于所述芯部层的至少一个主表面处。所述盖层包括碳和/或硼。可以在曝光操作之前或期间移除所述盖层。
    2024-11-10
  • 一种生产摄像头模组支架用识别光源
    一种生产摄像头模组支架用识别光源_江西水晶光电有限公司_202420594960.4
    本实用新型公开了一种生产摄像头模组支架用识别光源，包括相机、镜头、安装在镜头底部的环形光源以及摄像头模组支架，在所述环形光源下方安装传送装置，该传送装置上设置有透光的传送皮带，所述传送皮带下方安装有正对应环形光源且向上照射的皮下光源。当摄像...
    2024-11-10
  • 一种光罩防护结构和光罩结构
    一种光罩防护结构和光罩结构_泉意光罩光电科技(济南)有限公司_202323473669.6
    本申请提供一种光罩防护结构和光罩结构，涉及半导体加工技术领域，通过在透明基板上盖设有防护罩，在防护罩的周缘设置有吸附组件，将吸附组件背离防护罩的一侧放置于透明基板表面，并通过外力挤压使得吸附组件与透明基板表面之间的空气全部排出形成负压区，从...
    2024-11-10
  • 用于光刻设备中的表膜和隔膜
    用于光刻设备中的表膜和隔膜_ASML荷兰有限公司_202380023451.4
    披露用于光刻设备中的第一和第二新颖隔膜。所述第一隔膜包括芯部基板和金属硅酸盐层。所述金属硅酸盐层是所述第一隔膜的最外层。所述第二隔膜包括芯部基板和硅酸钇层。所述硅酸钇层可以是所述隔膜的最外层，或替代地，所述硅酸钇层可以被设置在所述芯部基板与...
    2024-11-10
  • 一种分离式严格的掩模模型与光刻胶模型建模与标定方法
    一种分离式严格的掩模模型与光刻胶模型建模与标定方法_武汉宇微光学软件有限公司_202111443238.8
    本发明属于半导体行业中计算光刻相关技术领域，并具体公开了一种分离式严格的掩模模型与光刻胶模型建模与标定方法。所述方法采用分步式掩模模型与光刻胶模型参数解耦标定的新思路，强调并利用光学成像模型与掩模模型的严格性，避免了复杂费时的复杂二维结构厚...
    2024-11-10
首页 上一页 9 下一页
技术分类

专利交易买卖与高校科技成果转化平台

主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务

Copyright ©龙图腾网 版权所有  营业执照  | 皖ICP备12007331号-2 lotut.com 皖公网安备 34010402703815号 中华人民共和国增值电信业务经营许可证