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申请/专利权人：佳能株式会社
摘要：本发明涉及显影装置。本发明实现了如下构造，在最小化对磁极的设计自由度的影响的同时，以低成本抑制与调节刮刀9相对的显影剂调节极的调节刮刀9附近的磁通密度分布的改变。显影套筒的外周面上的、显影套筒的外周面的法线方向上的磁通密度最大的位置是最大值位置。显影套筒的外周面上的与显影剂调节极的磁通密度分布的半峰值范围的中心部位置相对应的位置被称为半峰值中心部位置。在这种情况下，显影剂调节极被形成为使得最大值位置在显影套筒的圆周方向上关于半峰值中心部位置偏离至少3°，并且显影套筒的外周面上的与调节刮刀9相对的位置与半峰值中心部位置相同位于最大值位置的同一侧。
主权项：1.一种显影装置，所述显影装置包括：可旋转显影构件，其被构造为以朝向用于对图像承载构件上形成的静电潜像进行显影的位置承载并给送包括调色剂和载体的显影剂；调节部分，其在最靠近所述可旋转显影构件的位置与所述可旋转显影构件相对地配设，且被构造为调节所述可旋转显影构件上承载的显影剂的量；以及磁体，其不可旋转地且固定地配设在所述可旋转显影构件内部，且配设有包括与所述调节部分相对地配设的显影剂调节极的多个磁极，其中，半峰值中心部位置不小于最大峰值位置相对于所述可旋转显影构件的旋转方向的上游的3°，其中半峰值中心部位置是所述显影剂调节极在相对于所述可旋转显影构件的法线方向分量上的磁通密度的最大峰值的半峰值位置之间的半峰值宽度的中心位置，在最大峰值位置处，所述显影剂调节极在相对于所述可旋转显影构件的法线方向分量上的磁通密度最大，并且其中，所述调节部分设置在最大峰值位置相对于所述可旋转显影构件的旋转方向的上游。
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