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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 本发明提供一种光刻掩模版上大尺寸残留缺陷的去除方法,包括:1)提供光刻掩模版,光刻掩模版上具有遮光材料残留缺陷,遮光材料残留缺陷的最大径向尺寸大于或等于50微米;2)于光刻掩模版上覆盖光刻胶;3)通过激光照射遮光材料残留缺陷区域的光刻胶,以...
  • 本实用新型公开了一种用于金属掩模版卷材原料的输送装置,包括底座,还包括:定位组件,用于固定原料;所述定位组件,包括壳体、轴、连接杆以及卷筒,两个所述壳体上分别固定连接有轴,两个所述壳体上分别铰接有连接杆,所述轴以及连接杆上分别固定连接有卷筒...
  • 本实用新型公开了一种应用于防水壳的旋转式锁扣结构,包括有第一壳体和第二壳体,所述第一壳体的一侧设置有转轴,所述第一壳体通过所述转轴连接于所述第二壳体,所述第一壳体和第二壳体盖合时,形成有用于放置相机的放置腔;其中:所述第一壳体的另一侧设置有...
  • 本申请实施例涉及电子产品技术领域,提供一种棱镜马达、棱镜马达的旋转角度检测方法以及摄像设备,棱镜马达包括:底座、棱镜载体、第一极板、至少两个第二极板和导体板,底座包括底板和侧板;棱镜载体设置于底板上方,棱镜载体可相对于底座绕第一旋转轴和第二...
  • 提供能够谋求修理性的高度化的电子笔。具备电子笔主体部单元、向电子笔主体部单元供给电源电压的电源部单元、以及通过轴心方向上结合而构成电子笔外壳的第一壳体部及第二壳体部。电子笔主体部单元具备柱状形状,能够在轴心方向的一端侧装配芯体,并且在轴心方...
  • 本发明公开了一种可变成形束电子束曝光设备控制系统及图形控制方法,系统包括数据处理群集、高速图形发生器和PLC系统;所述数据处理群集作为图形计算核心,通过第一通信总线与图形发生器和PLC系统相连,并通过第二通信总线与图形发生器相连;所述PLC...
  • 本发明涉及热声技术领域,特别是涉及一种热声发动机。本发明的热声发动机,包括一级回路、二级回路和三级回路,三级回路中设置有涡轮组件;一级回路包括至少两个首尾相连的热声核心舱,热声核心舱用于将外部热源转换成声波,热声核心舱中设置有用于对声波进行...
  • 本实用新型涉及光刻机辅助调平领域,尤其涉及一种光刻机安装用辅助调平装置。包括底板,所述底板的上表面安装有移动组件,所述移动组件的一端安装有加工物镜,所述底板的一侧设置有机体,所述机体靠近底板的一侧设有辅助结构,所述辅助结构包括两个滑轨,两个...
  • 本发明一种多分镜头反倾斜直接帧化法及计算机设备,旨在解决多分镜头无掩膜光刻系统中数据处理路径长、处理单元要求高及实时性不足的问题,通过提出一种反倾斜直接帧化法,对各成像区域条带图形进行反倾斜处理,直接构造帧化矩形并进行多边形填充,最终合并为...
  • 本申请公开了一种光电三维加速度计,涉及传感器技术领域。不仅膜梁结构简单、加工成本更低,可以节省一套光学系统,而且无需进行软解耦即可得到三个加速度值,还提高了膜梁结合处的连接可靠性,同时具有光学结构体积较小、成本较低的优点。该三维加速度计包括...
  • 一种用于测量制造工艺的参数的方法,包括:利用辐射照射目标,检测来自目标的经散射的辐射,以及从所检测的辐射的不对称性来确定感兴趣的参数。
  • 本申请涉及一种曝光方法、装置、计算机设备、存储介质和计算机程序产品。方法包括:获取预设晶圆的多个不同位置处的初始平整度信息,预设晶圆上具有标记区;在覆盖预设晶圆的多个曝光单元中,获取目标曝光单元,目标曝光单元与标记区相邻;滤除目标曝光单元中...
  • 本发明涉及堆叠柱技术领域,尤其涉及一种PACK外壳堆叠柱机构,其技术方案包括堆叠柱支架、堆叠柱底座、堆叠柱导向尼龙板、活动托跷跷板、连杆以及脚踏跷跷板,堆叠柱支架设立在堆叠柱底座上,堆叠柱导向尼龙板设立在堆叠柱支架的侧壁,活动托跷跷板设在堆...
  • 本发明公开了一种安全可信系统的高可用IO模块冗余控制方法及系统,将模块分为模板侧和通道两个部分,模板侧负责通讯方面任务,通道负责通道控制方面任务。一对冗余模块中两个部分单独冗余,若出现通道故障,则仅切换故障通道,其他通道和通讯部分任在原模块...
  • 本发明提供能够形成高折射率的固化物、孔清晰度优异的感光性树脂组合物。本发明的感光性树脂组合物含有(A)烯属不饱和化合物、(B)光聚合引发剂、(C)碱可溶性树脂,上述(A)烯属不饱和化合物含有分子中具有1~3个烯属不饱和键及1~3个含硫芳香族...
  • 本实用新型属于投射装置技术领域,尤其为一种用于视觉设计的投射装置,包括投影仪、罩壳、底板、调节座和限位件,所述投影仪与罩壳配合连接设置,所述罩壳上配合连接有底板,所述底板的四角部位处固定连接有调节座,所述罩壳上配合设置有限位件,所述限位件与...
  • 本发明公开了一种光刻机的可调式双工作台系统,包括底架,所述底架顶部通过支撑杆连接顶板,且顶板底面两侧均设置有曝光设备,所述底架顶面设置有活动槽,所述曝光设备底端与活动槽对应设置。本发明通过设置第一工作台和第二工作台,第一工作台和第二工作台相...
  • 本实用新型公开了一种掩膜板调整装置及晶硅涂布系统,其中,掩膜板调整装置,包括第一传动组、Y轴驱动组件和Z轴驱动组件;第一传动组包括至少两个传动件,掩膜板安装于第一传动组并在第一传动组的传动件之间沿X轴向移动;Y轴驱动组件包括支座以及用于驱动...
  • 本发明属于半导体技术领域,公开了一种光刻多复用装置及其制作方法,所述装置包括设置于光刻机载片台与曝光光源之间的水平支架,以及内嵌于水平支架上的圆形镂空区;圆形镂空区中间设置有若干隔离带,且若干隔离带等面积分割圆形镂空区;水平支架上设置有滑轨...
  • 本实用新型公开了一种PCB板晒网曝光机,包括移动支腿,所述移动支腿顶部固定设有曝光柜,所述曝光柜内腔中部固定设有立板,所述立板内腔设有驱动机构,所述驱动机构两侧通过滑杆对称固定连接有夹板,所述曝光柜两侧对称固定设有电动伸缩杆,所述电动伸缩杆...
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