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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：一种用于测量制造工艺的参数的方法，包括：利用辐射照射目标，检测来自目标的经散射的辐射，以及从所检测的辐射的不对称性来确定感兴趣的参数。
主权项：1.一种测量制造工艺的参数的方法，包括：利用辐射照射目标，所述目标包括：光刻形成的开口；以及至少两个光刻形成的光栅，所述光栅与所述开口位于不同层；通过检测来自所述目标的经散射的辐射，确定测量信号；响应于所述测量信号具有不对称性，确定所述开口与所述光栅不对准。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 量测方法及其装置
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