龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：上海凸版光掩模有限公司
摘要：本发明提供一种光刻掩模版上大尺寸残留缺陷的去除方法，包括：1提供光刻掩模版，光刻掩模版上具有遮光材料残留缺陷，遮光材料残留缺陷的最大径向尺寸大于或等于50微米；2于光刻掩模版上覆盖光刻胶；3通过激光照射遮光材料残留缺陷区域的光刻胶，以通过高温气化的方式去除该区域中的光刻胶，以形成显露出遮光材料残留缺陷的刻蚀窗口；4通过刻蚀液去除刻蚀窗口中的遮光材料残留缺陷；5去除光刻胶。本发明同时具备了无缺陷残留以及流程时间短的优点，同时可以避免光刻掩模版的浪费，从而大大节约了制造成本。
主权项：1.一种光刻掩模版上大尺寸残留缺陷的去除方法，其特征在于，所述去除方法包括以下步骤：1提供光刻掩模版，所述光刻掩模版上具有遮光材料残留缺陷，所述遮光材料残留缺陷的最大径向尺寸大于或等于50微米；2于所述光刻掩模版上覆盖光刻胶；3通过激光照射所述遮光材料残留缺陷区域的光刻胶，以通过高温气化的方式去除该区域中的光刻胶，以形成显露出所述遮光材料残留缺陷的刻蚀窗口；4通过刻蚀液去除所述刻蚀窗口中的所述遮光材料残留缺陷；5去除所述光刻胶。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海凸版光掩模有限公司 光刻掩模版上大尺寸残留缺陷的去除方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号