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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 可降低对光刻机性能要求的版图掩膜处理方法、光刻方法
    可降低对光刻机性能要求的版图掩膜处理方法、光刻方法_深圳国微福芯技术有限公司_202410967917.2
    本发明公开了一种可降低对光刻机性能要求的版图掩膜处理方法、光刻方法。其中可降低对光刻机最小分辨率性能要求的版图掩膜处理方法，包括：步骤1，对设计版图中的几何图形的关键尺寸以及分布特征进行分析，并从中提取出适合进行DSA工艺处理的局部版图作为...
    2024-11-16
  • 光掩膜承载盒以及光掩膜装置的承载及清洁方法
    光掩膜承载盒以及光掩膜装置的承载及清洁方法_台湾积体电路制造股份有限公司_202411209323.1
    本发明实施例提供一种光掩膜承载盒用以承载光掩膜装置，光掩膜承载盒包括壳体以及抽气装置。壳体包括容置空间、进气孔以及抽气口，光掩膜装置设置于容置空间内，且进气孔经配置以将清洁气体注入壳体的容置空间内。抽气装置设置于壳体上，以对容置空间进行抽气...
    2024-11-16
  • 将图案形成装置与衬底进行空间对准的方法
    将图案形成装置与衬底进行空间对准的方法_ASML荷兰有限公司_202380031198.7
    描述了一种将图案形成装置与衬底进行空间对准的方法，其中，所述图案形成装置和所述衬底由包括一个或更多个可移动光学部件的光学路径分开，所述方法包括：‑执行多次对准测量，其中对于每次对准测量，所述可移动光学部件被布置在对应的预定位置中，‑组合所述...
    2024-11-16
  • 照明系统及投影装置
    照明系统及投影装置_中强光电股份有限公司_202110451093.X
    本发明提出一种照明系统及投影装置，照明系统用以提供照明光束，照明系统包括光源模块、第一波长转换装置以及第二波长转换装置。光源模块提供第一激发光束以及第二激发光束。第一波长转换装置设置于第一激发光束的路径上并具有多个第一区域以及两两相邻的第一...
    2024-11-16
  • OPC模型的建立方法和装置、光学邻近修正方法和设备、存储介质
    OPC模型的建立方法和装置、光学邻近修正方法和设备、存储介质_浙江创芯集成电路有限公司_202411231854.0
    一种OPC模型的建立方法和装置、光学邻近修正方法和设备、存储介质，所述建立方法包括：形成半导体结构，所述半导体结构具有经刻蚀层；通过量测机台，对所述经刻蚀层进行量测，获得刻蚀后量测值；将所述刻蚀后量测值转换为对应的显影后量测值；根据所述显影...
    2024-11-16
  • 一种新媒体图像数字投影装置
    一种新媒体图像数字投影装置_唐山师范学院_202411293643.X
    本发明公开了投影装置技术领域的一种新媒体图像数字投影装置，包括外壳，所述壳体内部中间固定安装有水平检测仪，所述外壳正前方开设有镜头卡口，所述镜头卡口中固定安装有防尘片，所述镜头卡口正后方固定安装有调节器，通过在外壳正前方的镜头卡口正后方安装...
    2024-11-16
  • 一种提升套刻精度的方法
    一种提升套刻精度的方法_上海华力集成电路制造有限公司_202411146988.2
    本申请提供一种提升套刻精度的方法，包括：步骤一，通过0层光刻工艺制备0层光刻胶图形；步骤二，通过0层刻蚀工艺在晶圆上制备OVL mark最终图形；步骤三，通过1层光刻工艺制备1层光刻胶图形；步骤四，对上述步骤制备出的完整OVL mark进行...
    2024-11-16
  • 掩模板的图案修正方法及其系统
    掩模板的图案修正方法及其系统_合肥晶合集成电路股份有限公司_202411413726.8
    本公开提供了一种掩模板的图案修正方法及其系统，该图案修正方法包括：获取目标图案；对目标图案的光刻图案进行光学临近修正；判断沿第一方向相邻的光刻图案的间距是否小于预设距离，若判断结果为否，输出光刻图案；以及若判断结果为是，沿第二方向在目标图案...
    2024-11-16
  • 晶片间叠加前馈控制及批次间反馈控制的系统及方法
    晶片间叠加前馈控制及批次间反馈控制的系统及方法_科磊股份有限公司_202180009170.4
    公开一种叠加控制系统。在实施例中，所述系统可包含控制器，所述控制器经配置以：基于记录计划(POR)取样图在至少一个先前批次样本的样本的第二层上获取一组反馈叠加测量值；基于所述组反馈叠加测量值产生参考晶片叠加图；基于前馈取样图在当前批次样本的...
    2024-11-16
  • 一种室内设计组装影视墙
    一种室内设计组装影视墙_漳州城市职业学院_202420054497.4
    本实用新型涉及影视墙技术领域，具体公开了一种室内设计组装影视墙，包括：影视墙主体，影视墙主体内部有幕布；电机，电机位于影视墙主体一侧，电机的输出轴能够驱动影视墙主体伸缩；限位机构，限位机构位于电机雨影视墙主体之间，限位机构能够对幕布主体进行...
    2024-11-16
  • 一种投影光源色温及亮度可调节的投影仪
    一种投影光源色温及亮度可调节的投影仪_深圳市毅丰光电科技有限公司_202420337051.2
    本申请提供了一种投影光源色温及亮度可调节的投影仪，包括光源模组、散热元件、转动支撑架、拨动件和激光光源；散热元件与光源模组连接，散热元件上设有导向滑槽；转动支撑架设置在光源模组与散热元件之间，转动支撑架与散热元件活动连接；转动支撑架上设有导...
    2024-11-16
  • 一种摄像模组镜头防起雾装置
    一种摄像模组镜头防起雾装置_深圳市影创芯科技有限公司_202410391293.4
    本发明公开了一种摄像模组镜头防起雾装置，属于摄像模组防雾技术领域，该摄像模组镜头防起雾装置，包括后置镜头模组机构，所述后置镜头模组机构的一端螺旋连接有前置镜头模组机构，所述前置镜头模组机构的一侧螺旋连接有镜头防护机构，所述前置镜头模组机构的...
    2024-11-16
  • 一种水性环保型双固化毛毯胶及其制备方法
    一种水性环保型双固化毛毯胶及其制备方法_浙江荣生科技有限公司_202011180823.9
    本发明公开了一种水性环保型双固化毛毯胶的制备方法，包括：1)将适量的聚乙烯醇、水、醋酸乙烯和丙烯酸酯合成反应，得到胶体；2)依次加入适量的环氧丙烯树脂、UV单体和UV光敏剂，高速乳化成胶；3)加入适量重氮树脂光敏剂与上述胶体混合均匀得到的混...
    2024-11-16
  • 基于量子纠缠全息技术的加解密方法及系统
    基于量子纠缠全息技术的加解密方法及系统_济南量子技术研究院_202111680764.6
    本发明公开了一种利用纠缠光子全息技术实现信息加解密的方法及系统，其利用量子纠缠全息技术代替传统全息实现信息的加密过程，物光和参考光无需实现重合，重建过程仅需要数值计算即可，从而能够解决传统全息加密技术在解密过程中存在的零阶衍射项噪声污染问题...
    2024-11-16
  • 光学镜头及其组装方法以及相应的摄像模组
    光学镜头及其组装方法以及相应的摄像模组_宁波舜宇光电信息有限公司_201810530139.5
    本发明提供了一种光学镜头，包括：第一镜头部件，其包括至少一个第一镜片；第二镜头部件，其包括第二镜筒和安装在所述第二镜筒内的至少一个第二镜片，所述至少一个第一镜片和所述至少一个第二镜片共同构成可成像的光学系统；第一胶材，其位于所述第一镜头部件...
    2024-11-16
  • 一种三维投影显示装置
    一种三维投影显示装置_临沂职业学院_202323402075.6
    本实用新型提供一种三维投影显示装置，涉及三维投影技术领域，本实用新型包括投影块和安装组件，所述投影块借助安装组件设有固定装置，所述固定装置包括支架，所述支架的一侧螺纹插设有螺栓，所述螺栓的表面螺纹连接有放置块，所述支架与放置块滑动连接，所述...
    2024-11-16
  • 一种激光直刻金属柱面光栅光刻机
    一种激光直刻金属柱面光栅光刻机_廊坊市莱格光电仪器有限公司_202110150974.8
    本申请提供一种激光直刻金属柱面光栅光刻机，包括回转系统和第二光栅读数头；回转系统顶端由下至上依次设多码道基准圆光栅及柱面光栅基体，回转系统驱动多码道基准圆光栅及柱面光栅基体旋转；激光光刻系统对柱面光栅基体光刻；控制计算系统用于接收多码道基准...
    2024-11-16
  • 树脂、树脂组合物以及利用其的显示装置
    树脂、树脂组合物以及利用其的显示装置_德山新勒克斯有限公司_202410551672.5
    本发明涉及树脂、树脂组合物以及利用其的显示装置。本发明提供了一种染料，其具有优异的耐光性，不会因为外部太阳光变形，并且，具有优异的耐化学性，即使在低温进行成型，也不会由于工艺中的其他溶剂导致颜色发生变形。本发明还提供了一种像素，其采用光引发...
    2024-11-16
  • 一种阵列相机镜头调节装置
    一种阵列相机镜头调节装置_江苏安胜达安全科技有限公司_202323556938.5
    本实用新型公开了一种阵列相机镜头调节装置，包括切换装置和镜头本体，切换装置的一侧固定安装有安装板，且切换装置的一侧对称开设有若干个安装槽，还包括：切换装置的内部靠近若干个安装槽的一侧均设置有调节组件，其中，调节组件包括开设在切换装置的内部靠...
    2024-11-16
  • 光刻掩模版上大尺寸残留缺陷的去除方法
    光刻掩模版上大尺寸残留缺陷的去除方法_上海凸版光掩模有限公司_202310500486.4
    本发明提供一种光刻掩模版上大尺寸残留缺陷的去除方法，包括：1)提供光刻掩模版，光刻掩模版上具有遮光材料残留缺陷，遮光材料残留缺陷的最大径向尺寸大于或等于50微米；2)于光刻掩模版上覆盖光刻胶；3)通过激光照射遮光材料残留缺陷区域的光刻胶，以...
    2024-11-16
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