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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 棱镜马达、棱镜马达的旋转角度检测方法以及摄像设备
    棱镜马达、棱镜马达的旋转角度检测方法以及摄像设备_基合半导体(宁波)有限公司_202411104150.7
    本申请实施例涉及电子产品技术领域，提供一种棱镜马达、棱镜马达的旋转角度检测方法以及摄像设备，棱镜马达包括：底座、棱镜载体、第一极板、至少两个第二极板和导体板，底座包括底板和侧板；棱镜载体设置于底板上方，棱镜载体可相对于底座绕第一旋转轴和第二...
    2024-11-19
  • 电子笔
    电子笔_株式会社和冠_202380032999.5
    提供能够谋求修理性的高度化的电子笔。具备电子笔主体部单元、向电子笔主体部单元供给电源电压的电源部单元、以及通过轴心方向上结合而构成电子笔外壳的第一壳体部及第二壳体部。电子笔主体部单元具备柱状形状，能够在轴心方向的一端侧装配芯体，并且在轴心方...
    2024-11-19
  • 一种可变成形束电子束曝光设备控制系统及图形控制方法
    一种可变成形束电子束曝光设备控制系统及图形控制方法_中国电子科技集团公司第四十八研究所_202411145503.8
    本发明公开了一种可变成形束电子束曝光设备控制系统及图形控制方法，系统包括数据处理群集、高速图形发生器和PLC系统；所述数据处理群集作为图形计算核心，通过第一通信总线与图形发生器和PLC系统相连，并通过第二通信总线与图形发生器相连；所述PLC...
    2024-11-19
  • 用于极紫外光刻的空白掩模和光掩模
    用于极紫外光刻的空白掩模和光掩模_思而施技术株式会社_202011221137.1
    本发明涉及一种用于极紫外光刻的空白掩模以及光掩模，包含依序形成于透明基板上的反射膜、覆盖膜以及吸收膜，其中反射膜具有0.5纳米Ra或小于0.5纳米Ra的表面粗糙度。有可能防止极紫外光掩模图案的基脚发生，改善极紫外空白掩模的平坦度，且防止覆盖...
    2024-11-19
  • 一种热声发动机
    一种热声发动机_上海赛宝好多电能源科技有限公司_202411193501.6
    本发明涉及热声技术领域，特别是涉及一种热声发动机。本发明的热声发动机，包括一级回路、二级回路和三级回路，三级回路中设置有涡轮组件；一级回路包括至少两个首尾相连的热声核心舱，热声核心舱用于将外部热源转换成声波，热声核心舱中设置有用于对声波进行...
    2024-11-19
  • 一种光刻机安装用辅助调平装置
    一种光刻机安装用辅助调平装置_上海亚曼光电科技有限公司_202420681038.9
    本实用新型涉及光刻机辅助调平领域，尤其涉及一种光刻机安装用辅助调平装置。包括底板，所述底板的上表面安装有移动组件，所述移动组件的一端安装有加工物镜，所述底板的一侧设置有机体，所述机体靠近底板的一侧设有辅助结构，所述辅助结构包括两个滑轨，两个...
    2024-11-19
  • 多分镜头反倾斜直接帧化法及计算机设备
    多分镜头反倾斜直接帧化法及计算机设备_合肥睿翼创智技术开发有限公司_202410960519.8
    本发明一种多分镜头反倾斜直接帧化法及计算机设备，旨在解决多分镜头无掩膜光刻系统中数据处理路径长、处理单元要求高及实时性不足的问题，通过提出一种反倾斜直接帧化法，对各成像区域条带图形进行反倾斜处理，直接构造帧化矩形并进行多边形填充，最终合并为...
    2024-11-19
  • 一种光电三维加速度计
    一种光电三维加速度计_燕山大学_202410974456.1
    本申请公开了一种光电三维加速度计，涉及传感器技术领域。不仅膜梁结构简单、加工成本更低，可以节省一套光学系统，而且无需进行软解耦即可得到三个加速度值，还提高了膜梁结合处的连接可靠性，同时具有光学结构体积较小、成本较低的优点。该三维加速度计包括...
    2024-11-19
  • 安全可信系统的高可用IO模块冗余控制方法及系统
    安全可信系统的高可用IO模块冗余控制方法及系统_浙江正泰中自控制工程有限公司_202411119833.X
    本发明公开了一种安全可信系统的高可用IO模块冗余控制方法及系统，将模块分为模板侧和通道两个部分，模板侧负责通讯方面任务，通道负责通道控制方面任务。一对冗余模块中两个部分单独冗余，若出现通道故障，则仅切换故障通道，其他通道和通讯部分任在原模块...
    2024-11-19
  • 曝光方法、装置、计算机设备、存储介质
    曝光方法、装置、计算机设备、存储介质_上海积塔半导体有限公司_202411322507.9
    本申请涉及一种曝光方法、装置、计算机设备、存储介质和计算机程序产品。方法包括：获取预设晶圆的多个不同位置处的初始平整度信息，预设晶圆上具有标记区；在覆盖预设晶圆的多个曝光单元中，获取目标曝光单元，目标曝光单元与标记区相邻；滤除目标曝光单元中...
    2024-11-19
  • 一种PACK外壳堆叠柱机构
    一种PACK外壳堆叠柱机构_苏州优乐赛供应链管理有限公司_202411032966.3
    本发明涉及堆叠柱技术领域，尤其涉及一种PACK外壳堆叠柱机构，其技术方案包括堆叠柱支架、堆叠柱底座、堆叠柱导向尼龙板、活动托跷跷板、连杆以及脚踏跷跷板，堆叠柱支架设立在堆叠柱底座上，堆叠柱导向尼龙板设立在堆叠柱支架的侧壁，活动托跷跷板设在堆...
    2024-11-19
  • 量测方法及其装置
    量测方法及其装置_ASML荷兰有限公司_201980061872.X
    一种用于测量制造工艺的参数的方法，包括：利用辐射照射目标，检测来自目标的经散射的辐射，以及从所检测的辐射的不对称性来确定感兴趣的参数。
    2024-11-19
  • 感光性树脂组合物、固化物及图像显示装置
    感光性树脂组合物、固化物及图像显示装置_三菱化学株式会社_202380027127.X
    本发明提供能够形成高折射率的固化物、孔清晰度优异的感光性树脂组合物。本发明的感光性树脂组合物含有(A)烯属不饱和化合物、(B)光聚合引发剂、(C)碱可溶性树脂，上述(A)烯属不饱和化合物含有分子中具有1～3个烯属不饱和键及1～3个含硫芳香族...
    2024-11-19
  • 一种用于视觉设计的投射装置
    一种用于视觉设计的投射装置_胡艺坤_202323404763.6
    本实用新型属于投射装置技术领域，尤其为一种用于视觉设计的投射装置，包括投影仪、罩壳、底板、调节座和限位件，所述投影仪与罩壳配合连接设置，所述罩壳上配合连接有底板，所述底板的四角部位处固定连接有调节座，所述罩壳上配合设置有限位件，所述限位件与...
    2024-11-19
  • 一种光刻机的可调式双工作台系统
    一种光刻机的可调式双工作台系统_苏州耀佳金属科技有限公司_202110929391.5
    本发明公开了一种光刻机的可调式双工作台系统，包括底架，所述底架顶部通过支撑杆连接顶板，且顶板底面两侧均设置有曝光设备，所述底架顶面设置有活动槽，所述曝光设备底端与活动槽对应设置。本发明通过设置第一工作台和第二工作台，第一工作台和第二工作台相...
    2024-11-19
  • 一种掩膜板调整装置及晶硅涂布系统
    一种掩膜板调整装置及晶硅涂布系统_德沪涂膜设备(苏州)有限公司_202420599112.2
    本实用新型公开了一种掩膜板调整装置及晶硅涂布系统，其中，掩膜板调整装置，包括第一传动组、Y轴驱动组件和Z轴驱动组件；第一传动组包括至少两个传动件，掩膜板安装于第一传动组并在第一传动组的传动件之间沿X轴向移动；Y轴驱动组件包括支座以及用于驱动...
    2024-11-19
  • 一种光刻多复用装置及其制作方法
    一种光刻多复用装置及其制作方法_深圳市汇芯通信技术有限公司_202411165423.9
    本发明属于半导体技术领域，公开了一种光刻多复用装置及其制作方法，所述装置包括设置于光刻机载片台与曝光光源之间的水平支架，以及内嵌于水平支架上的圆形镂空区；圆形镂空区中间设置有若干隔离带，且若干隔离带等面积分割圆形镂空区；水平支架上设置有滑轨...
    2024-11-19
  • 一种PCB板晒网曝光机
    一种PCB板晒网曝光机_江西恒庆照明有限公司_202420086522.7
    本实用新型公开了一种PCB板晒网曝光机，包括移动支腿，所述移动支腿顶部固定设有曝光柜，所述曝光柜内腔中部固定设有立板，所述立板内腔设有驱动机构，所述驱动机构两侧通过滑杆对称固定连接有夹板，所述曝光柜两侧对称固定设有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆...
    2024-11-19
  • 一种曝光机用压平装置
    一种曝光机用压平装置_苏州华普智能科技有限公司_202420552506.2
    本实用新型公开了一种曝光机用压平装置，应用在曝光机压平领域，包括下框体，所述下框体的顶部铰接有上框体，所述下框体的顶部固定安装有下台面，在曝光机对曝光件进行压平时，将曝光件放置在下台面上，而后盖合上框体，此时由于铰接转动关系，上框体靠近铰接...
    2024-11-19
  • 一种光罩修补方法
    一种光罩修补方法_泉意光罩光电科技(济南)有限公司_202411347035.2
    本申请提供一种光罩修补方法，涉及半导体加工技术领域。该光罩修补方法，包括：对光罩上的高穿透缺陷进行定位；在高穿透缺陷上添加遮光材料，以使高穿透缺陷变为遮光缺陷；将遮光缺陷移除。该光罩修补方法先将高穿透缺陷变为遮光缺陷，然后再通过移除遮光缺陷...
    2024-11-19
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