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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种掩模板优化方法、装置及提高全息成像质量的方法
    一种掩模板优化方法、装置及提高全息成像质量的方法_光科芯图(北京)科技有限公司_202310483476.4
    本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种掩模板优化方法、装置及提高全息成像质量的方法，一种掩模板优化方法包括如下步骤：提供一初始掩模板、一覆盖有非线性材料的晶圆；在预设时间内依次向所述初始掩模板提供两个相同的EUV脉冲，并对经过所述初始掩模板的...
    2024-11-13
  • 干膜抗蚀剂及其制备方法与应用
    干膜抗蚀剂及其制备方法与应用_湖南初源新材料股份有限公司_202410864709.X
    本发明公开了一种干膜抗蚀剂及其制备方法与应用，其中干膜抗蚀剂包括以下重量份的原料组分：50‑70份碱溶性树脂溶液、30‑40份光聚合单体、0.2‑5份光引发剂；所述光聚合单体为含不饱和双键的光聚合化合物，所述光聚合化合物包括HEMA‑IPD...
    2024-11-13
  • 一种改善曝光机光刻精度的掩膜版
    一种改善曝光机光刻精度的掩膜版_福建华佳彩有限公司_202420013219.4
    本实用新型提供了一种改善曝光机光刻精度的掩膜版，所述光刻掩膜版由基板、镀层、薄膜和框架构成，所述框架围设于所述基板的下方，所述镀层和薄膜位于所述框架内部，且依次设置于所述基板的下方，所述镀层由若干遮光区和透光区依次交替排列构成，所述遮光区的...
    2024-11-13
  • 一种可快速曝光的丝印晒版灯
    一种可快速曝光的丝印晒版灯_深圳市开度零航科技股份有限公司_202420624180.X
    本实用新型涉及丝印晒版灯技术领域，且公开了一种可快速曝光的丝印晒版灯，包括上盖与箱体，所述上盖的前部设置有观察窗，所述上盖上并位于观察窗的后方固定设置有第一磁铁，所述上盖上并位于观察窗的两侧均固定设置有第二磁铁，所述上盖的两侧壁均固定设置有...
    2024-11-13
  • 集成可变光圈的潜望式镜头装置、摄像模组及电子设备
    集成可变光圈的潜望式镜头装置、摄像模组及电子设备_上海比路电子股份有限公司_202311864425.2
    本发明公开了一种集成可变光圈的潜望式镜头装置、摄像模组及电子设备，通过将可变光圈组件的可变光圈壳体内部设置为包括沿光轴方向布置的光圈叶片区域和镜头容纳区域，以及至少部分环绕镜头容纳区域的叶片驱动区域，使得可变光圈组件与镜头变焦组件连接时，部...
    2024-11-13
  • 一种用于超载检测的公路秤台
    一种用于超载检测的公路秤台_湖南海德威科技有限公司_202411047516.1
    本发明属于货车秤台技术领域，公开了一种用于超载检测的公路秤台，包括位于基坑内的底座、台面、称重传感器，底座边缘设置湿度传感器，底座开设竖槽，竖槽内部安置活塞缸，活塞缸连接吸水管和排水管，活塞杆的顶端与活塞缸之间设置弹簧，活塞杆的顶端转动连接...
    2024-11-13
  • 驱动装置、照相装置以及电子设备
    驱动装置、照相装置以及电子设备_新思考电机有限公司_202011565678.6
    提供能够减少灰尘落至图像传感器侧的透镜驱动装置、照相装置以及电子设备。透镜驱动装置包括具有透镜支撑体的移动体、支撑所述移动体向透镜的光轴方向自由移动的固定体，所述固定体具有用于来自所述透镜的光通过的通孔、位于所述通孔周围形成的且在光轴方向与...
    2024-11-13
  • 一种可调整CPL偏振镜角度的滤镜装置
    一种可调整CPL偏振镜角度的滤镜装置_昆明市滇池高原湖泊研究院_202420697243.4
    本实用新型公开了一种可调整CPL偏振镜角度的滤镜装置，由镜体和调节体组成；当镜体放入调节体时镜筒限位孔与调节体镜筒限位卡销相配合，调节体镜筒限位卡销刚好可以稳定插入镜筒限位孔，实现镜体安装在调节体镜筒架上时，相对镜体调节架不发生旋转；镜筒限...
    2024-11-13
  • 一种具有蓝牙音响和手机充电功能的便携式投影仪
    一种具有蓝牙音响和手机充电功能的便携式投影仪_四川谱炬光电科技有限公司_202110049577.1
    本发明公开一种具有蓝牙音响和手机充电功能的便携式投影仪，包括壳体、安装在壳体内的镜头、反光镜和电路板，所述壳体的左右两侧为半椭圆曲面，所述镜头设于壳体内一侧并靠近壳体该侧的半椭圆曲面，所述反光镜和电路板的边缘设为圆弧状，使其与壳体的半椭圆曲...
    2024-11-13
  • 线下建立掩膜版缺陷检测程式的方法
    线下建立掩膜版缺陷检测程式的方法_上海华力集成电路制造有限公司_202410948960.4
    本发明提供了一种线下建立掩膜版缺陷检测程式的方法，属于半导体领域。该线下建立掩膜版缺陷检测程式的方法包括获取掩膜版缺陷检测程式的原始recipe文件；在掩膜版的非曝光区域设置一标记图形并建立掩模版缺陷检测程式中的子recipe文件；将子re...
    2024-11-13
  • 超表面元件的设计方法和投影装置
    超表面元件的设计方法和投影装置_宁波舜宇奥来技术有限公司_202411116633.9
    本发明提供了一种超表面元件的设计方法和投影装置。超表面元件的设计方法包括：根据目标投射点阵确定超表面元件的准直相位 2024-11-13
  • 药液、药液容纳体、抗蚀剂图案形成方法、半导体芯片的制造方法
    药液、药液容纳体、抗蚀剂图案形成方法、半导体芯片的制造方法_富士胶片株式会社_201980064889.0
    本发明提供一种在用作显影液或冲洗液时，能够形成图案间隔的偏差得到抑制的抗蚀剂图案的药液、药液容纳体、抗蚀剂图案形成方法及半导体芯片的制造方法。本发明的药液含有乙酸正丁酯及乙酸异丁酯，所述药液中，相对于药液总质量，乙酸正丁酯的含量为99.00...
    2024-11-13
  • 透镜驱动装置、相机模块和光学器具
    透镜驱动装置、相机模块和光学器具_LG伊诺特有限公司_202210602567.0
    本发明涉及透镜驱动装置、相机模块和光学器具。实施方式涉及一种透镜驱动装置，该透镜驱动装置包括：第一可移动元件，第一可移动元件包括线筒和第一线圈；第二可移动元件，第二可移动元件包括壳体和第一磁体；基部，基部设置在壳体下方；板，板包括具有第二线...
    2024-11-13
  • 一种自加热纳米压印工艺
    一种自加热纳米压印工艺_吉林工业职业技术学院_202410116176.7
    本发明公开了一种自加热纳米压印工艺，包括如下压印步骤：先选择所需的图形化基板；在选好的图形化基板上成型带有导电薄膜的压印胶；待带有导电薄膜的压印胶固化后，将其整体从图形化基板上进行剥离，得到图形化电极结构；在衬底上旋涂光刻胶，然后将图形化电...
    2024-11-13
  • 基于Micro-LED和Micro-QLED的混合式投影光学装置
    基于Micro-LED和Micro-QLED的混合式投影光学装置_四川启睿克科技有限公司_202420484190.8
    本实用新型公开了基于Micro‑LED和Micro‑QLED的混合式投影光学装置，包括X‑Cube合色棱镜、投影镜头以及设置于X‑Cube合色棱镜外侧的绿光、蓝光和红光Micro‑QLED微显示屏；X‑Cube棱镜设置于投影镜头的入光口；绿...
    2024-11-13
  • 一种扫描式光刻机架构
    一种扫描式光刻机架构_上海赐兴微电子技术有限公司_202323353243.7
    本实用新型提供一种扫描式光刻机架构，掩膜台通过联动气浮装置的联动架组构造在硅片工作台的后上方，光源及主镜头分别构造在掩膜台的上方与下方；所述联动架组受驱动后可带动掩膜台与硅片工作台沿Y轴方向同步往复运动；当曝光时候，掩膜台和硅片工作台同时随...
    2024-11-13
  • 一种基于数据采集的串行运行的方法
    一种基于数据采集的串行运行的方法_四川启睿克科技有限公司_202211372293.7
    本发明公开了一种基于数据采集的串行运行的方法，通过多线程的定时任务配置，采用三个控制器去控制数据类型、数据未完成进度和当前数据进度时间，同时对数据日志进行实时跟踪的方式，就可以避免出串行采集时容易出现要么数据丢失，要么数据重跑时重复载入而导...
    2024-11-13
  • 一种软膜替换及纳米压印一体设备
    一种软膜替换及纳米压印一体设备_苏州光舵微纳科技股份有限公司_201810521566.7
    本发明公开了一种软膜替换及纳米压印一体设备，包括软膜复制工位；压印工位，若干个独立的压印工位用于进行纳米压印，压印工位与软膜复制工位之间设有载盘存放区、软膜存放区；层叠架，压印工位设为两排，层叠架与其中一排压印工位齐平，层叠架上具备晶圆存放...
    2024-11-13
  • 智能光掩膜及其光刻设备、光刻方法和光刻图案形成方法
    智能光掩膜及其光刻设备、光刻方法和光刻图案形成方法_默司科技股份有限公司_202080063730.X
    本发明实施例提出一种智能光掩膜及其光刻设备、光刻方法和光刻图案形成方法。所述智能光掩膜包括底板、多个第一微型发光二极管组件以及保护层。所述多个第一微型发光二极管组件以阵列排列设置于与传统光掩膜之尺寸一致的底板上，以基于从所述底板上的线路接收...
    2024-11-13
  • 一种耐HF酸蚀刻可强碱退的光刻胶及其制备方法
    一种耐HF酸蚀刻可强碱退的光刻胶及其制备方法_乾宇微纳技术(深圳)有限公司_202411054435.4
    本发明公开了一种耐HF酸蚀刻可强碱退的光刻胶及其制备方法，属于光刻胶技术领域，包括以下组分：线性酚醛树脂、腰果壳油酚醛树脂、小分子酚、光敏剂、催化剂、溶剂、助剂；所述小分子酚包括双酚A、对苯二酚、对羟基苯甲醚、2‑乙基苯‑1,4‑二酚、2,...
    2024-11-13
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