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申请/专利权人：湖南初源新材料股份有限公司
摘要：本发明公开了一种干膜抗蚀剂及其制备方法与应用，其中干膜抗蚀剂包括以下重量份的原料组分：50‑70份碱溶性树脂溶液、30‑40份光聚合单体、0.2‑5份光引发剂；所述光聚合单体为含不饱和双键的光聚合化合物，所述光聚合化合物包括HEMA‑IPDI‑R‑IPDI‑HEMA，其中R的重均分子量为1000‑3000gmol，所述R为聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇、聚己内酯二醇、聚己二酸‑1,4‑丁二醇酯二醇中的一种。本发明制备的HEMA‑IPDI‑R‑IPDI‑HEMA与碱溶性高分子树脂共同作用形成的干膜抗蚀剂在印刷电路板表面流动性降低，在100μm的孔径中表现优异，可以改善干膜抗蚀剂的塞孔性能。
主权项：1.一种干膜抗蚀剂，其特征在于，包括以下重量份的原料组分：30份碱溶性树脂A、28份碱溶性树脂B、30-40份光聚合单体、0.2-5份光引发剂；所述碱溶性树脂A的合成单体为甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸丁酯；所述碱溶性树脂B的合成单体为甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸丁酯和苯乙烯；所述光聚合单体为含不饱和双键的光聚合化合物，所述含不饱和双键的光聚合化合物包括HEMA-IPDI-R-IPDI-HEMA，该光聚合单体HEMA-IPDI-R-IPDI-HEMA的第一反应原料为HEMA，第二反应原料为IPDI，第三反应原料为聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇、聚己内酯二醇、聚己二酸-1,4-丁二醇酯二醇中的一种，其中R的重均分子量为1000-3000gmol；所述HEMA-IPDI-R-IPDI-HEMA在光聚合单体中的质量百分比为20-60%，HEMA-IPDI-R-IPDI-HEMA的具体结构式如下： ；所述干膜抗蚀剂在100μm的孔径中的塞孔率低于2.2%。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 湖南初源新材料股份有限公司 干膜抗蚀剂及其制备方法与应用
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