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申请/专利权人:乾宇微纳技术(深圳)有限公司
摘要:本发明公开了一种耐HF酸蚀刻可强碱退的光刻胶及其制备方法,属于光刻胶技术领域,包括以下组分:线性酚醛树脂、腰果壳油酚醛树脂、小分子酚、光敏剂、催化剂、溶剂、助剂;所述小分子酚包括双酚A、对苯二酚、对羟基苯甲醚、2‑乙基苯‑1,4‑二酚、2,6‑萘二酚中的至少一种。本发明所述的光刻胶致密性和交联密度高,所述的光刻胶具有极高分辨率和优异的耐氢氟酸(HF)腐蚀性能,在极高的分辨率(分辨率越线路越窄,越容易被腐蚀)的情况下,仍然具有极强的耐氢氟酸(HF)腐蚀性能,在光刻胶保护区域不被HF蚀刻,显影出来的没有光刻胶区域则会腐蚀形成蚀刻纹路,蚀刻完毕后,用氢氧化钠溶液即可退胶,具有广泛的应用前景。
主权项:1.一种耐HF酸蚀刻可强碱退胶的光刻胶,其特征在于,包括以下重量份的制备原料:15~30份线性酚醛树脂、5~10份腰果壳油酚醛树脂、0.5~2份小分子酚、4~20份光敏剂、0.1~1份催化剂、45~70份溶剂、1~3份助剂;所述小分子酚为对羟基苯甲醚;所述光敏剂为重氮萘醌磺酸酯;所述催化剂为乙酰丙酮铝。
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