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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 本实用新型公开了工业胶片悬挂式冲洗机,涉及工业胶片冲洗设备技术领域,包括冲洗箱主体、喂片机构、吊架机构和晾片机构,所述冲洗箱主体一端安装有喂片机构,所述冲洗箱主体一端安装有吊架机构,所述吊架机构一端安装有片机构。本实用新型通过设置的冲洗箱主...
  • 本发明公开了一种时延显影盒,包括:盒体;动力接收件,转动设置在盒体长度方向的第一端,动力接收件用于接收来自于成像装置的动力;触发装置,设置在盒体上,动力接收件能够将来自于成像装置的动力传递给触发装置;开关组件,设置在盒体上,当触发装置接收到...
  • 本公开提供了一种感光构件单元,成像设备包括能够同轴旋转的第一主组件侧斜齿轮部分和第二主组件侧斜齿轮部分,感光构件单元包括:能够围绕其旋转轴线旋转的感光构件;第一单元侧斜齿轮部分;以及第二单元侧斜齿轮部分,其中第二单元侧斜齿轮部分的齿的扭转方...
  • 本公开提供了一种光学邻近修正方法,涉及半导体技术领域。该方法包括:获取初始掩膜版;对所述初始掩膜版进行OPC处理,得到目标掩膜版,以利用所述目标掩膜版进行半导体结构的制备,其中,所述OPC处理包括以下至少一种:将初始掩膜版对应的掩膜类型由P...
  • 本申请提供一种半导体光刻模拟方法、装置和电子设备,获取目标图形,根据目标图形设计掩模图形,而后模拟曝光信息透过掩模图形作用于晶圆的光刻胶层且经过光刻胶层后作用于晶圆的底层时底层的反射,还模拟光刻胶层在曝光信息以及底层的反射二者的作用下形成的...
  • 本实用新型涉及可拆卸地安装在设置有电力输出件的成像设备中的处理盒,该处理盒包括第一单元壳体、可旋转地设置在第一单元壳体中的显影件和供应件以及与显影件接触的调整件,显影件沿第一方向延伸,第一单元壳体中存储有显影剂,供应件用于将显影剂向着显影件...
  • 本发明是一种废碳粉侦测装置,包含有搅拌杆、传动件、旋臂、以及标志件,搅拌杆用来搅拌废碳粉,传动件能基于搅拌杆的旋转负荷而沿着搅拌杆的轴线在传动位置与脱离位置之间移动,当传动件位于传动位置时能传送旋转至搅拌杆,当传动件位于脱离位置时不能传送旋...
  • 本实用新型公开了一种粉辊轴及粉末开关,粉辊轴包括粉辊轴本体,所述粉辊轴本体上形成有粉末计量部,靠近所述粉末计量部的两端分别形成有环形槽,所述环形槽沿所述粉辊轴本体径向环绕。粉末开关包括粉辊轴、壳体和轴承,所述壳体上形成有进粉口和出粉口,所述...
  • 本发明公开了一种图像形成装置。所述图像形成装置包括框架、顶板盖和螺钉,所述顶板盖可从框架移除并具有构成图像形成装置的顶面的一部分的顶面部。所述框架包括与顶面部相对的上表面部、相对于上表面部设置在前侧的前表面部、以及相对于上表面部设置在后侧并...
  • 本实用新型公开了一种激光打印机用碳粉盒灌粉装置,包括碳粉盒组件,碳粉盒组件内部设置有可保持轴向转动的灌粉组件,灌粉组件一侧端部突出于碳粉盒组件,灌粉组件突出于碳粉盒组件的端部与外界保持相通,灌粉组件的外壁围绕设置有搅拌扇叶,各个搅拌扇叶的外...
  • 用于EUV光刻的表膜包括:芯部层,所述芯部层包括硅且具有至少一个非氧化表面;和盖层,所述盖层位于所述芯部层的至少一个主表面处。所述盖层包括碳和/或硼。可以在曝光操作之前或期间移除所述盖层。
  • 本实用新型公开了一种生产摄像头模组支架用识别光源,包括相机、镜头、安装在镜头底部的环形光源以及摄像头模组支架,在所述环形光源下方安装传送装置,该传送装置上设置有透光的传送皮带,所述传送皮带下方安装有正对应环形光源且向上照射的皮下光源。当摄像...
  • 本申请提供一种光罩防护结构和光罩结构,涉及半导体加工技术领域,通过在透明基板上盖设有防护罩,在防护罩的周缘设置有吸附组件,将吸附组件背离防护罩的一侧放置于透明基板表面,并通过外力挤压使得吸附组件与透明基板表面之间的空气全部排出形成负压区,从...
  • 披露用于光刻设备中的第一和第二新颖隔膜。所述第一隔膜包括芯部基板和金属硅酸盐层。所述金属硅酸盐层是所述第一隔膜的最外层。所述第二隔膜包括芯部基板和硅酸钇层。所述硅酸钇层可以是所述隔膜的最外层,或替代地,所述硅酸钇层可以被设置在所述芯部基板与...
  • 本发明属于半导体行业中计算光刻相关技术领域,并具体公开了一种分离式严格的掩模模型与光刻胶模型建模与标定方法。所述方法采用分步式掩模模型与光刻胶模型参数解耦标定的新思路,强调并利用光学成像模型与掩模模型的严格性,避免了复杂费时的复杂二维结构厚...
  • 本发明涉及光刻机技术领域,特别涉及一种二次成像版图拆分方法、系统及存储介质,包括以下步骤:获取原始版图,原始版图中具有多个图形,图形中包括多个实例,多个实例之间的距离大于或等于第一预设距离;将图形中每种类型单元中的一实例作为代表实例,对每种...
  • 本申请公开一种菲涅尔投影屏幕及投影装置,涉及投影显示技术领域,能够提高现有投影屏幕的均匀性。该菲涅尔投影屏幕包括反射层、菲涅尔透镜层和表面层。反射层用于出射光线。菲涅尔透镜层层叠设置于反射层的一侧。表面层层叠设置于菲涅尔透镜层远离反射层的一...
  • 本实用新型公开了一种用于滴酸装置的零点校正机构,涉及显示面板制造技术领域。该零点校正机构包括固定座、测量组件及零点标定件,测量组件包括测量头和连接杆,所述连接杆与所述测量头相连接,所述测量头滑动设置于所述固定座;所述零点标定件与所述连接杆相...
  • 本发明提供一种曝光机的对准定位装置,包括X轴传送机构、X轴检测机构、Y轴传送机构、Y轴检测机构、连接机构,X轴检测机构包括第一导向槽、及第一拍摄组件,第一导向槽中设有第一齿牙,第一拍摄组件包括第一滑动杆、第一连接杆、第一超越离合器、第一往复...
  • 本实用新型涉及拍照设备技术领域,具体为八面镜拍照盒子,包括第一盒子和第二盒子,所述第一盒子和第二盒子上分别安装有第一固定座和第二固定座,所述第一固定座和第二固定座均位于整个装置的底端,所述第一固定座和第二固定座上分别固定安装有第一镜体和第二...
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