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五金工具产品及配附件制造技术
  • 用于衬底处理系统的喷头
    用于衬底处理系统的喷头_朗姆研究公司_202380028371.8
    一种用于衬底处理系统的双充气腔喷头包括基部和背板。基部包括面向衬底的第一表面、与第一表面相对的第二表面、以及延伸于第一表面与第二表面之间的侧壁。第一表面和第二表面是平坦的。第一表面和第二表面以及侧壁限定第一充气腔。背板包括从背板的中心部延伸...
    2024-11-13
  • 一种用于内孔表面CVD涂层制备的装置
    一种用于内孔表面CVD涂层制备的装置_湖南联合半导体科技有限公司_202420533943.X
    本实用新型公开了一种用于内孔表面CVD涂层制备的装置，其包括：支撑环、承接板和沉积基座；所述承接板呈圆形，所述承接板的边缘搭接于所述支撑环上；所述承接板上设置有若干个通孔；所述沉积基座为圆筒型结构，其内腔为与待处理零件外形匹配的形状；所述沉...
    2024-11-13
  • 一种半导体激光器件的端面制备及镀膜方法
    一种半导体激光器件的端面制备及镀膜方法_上海三菲半导体有限公司_202210075850.2
    本发明公开一种半导体激光器件的端面制备及镀膜方法，属于半导体激光器件的制备技术领域，包括以下步骤：步骤1，采用感应耦合等离子体‑反应离子刻蚀方法形成激光器件的前端面、后端面；步骤2，通过光刻的方式露出前端面的待镀膜区域或后端面的待镀膜区域，...
    2024-11-13
  • 成膜方法和成膜装置
    成膜方法和成膜装置_东京毅力科创株式会社_202010789975.2
    本发明涉及成膜方法和成膜装置。[课题]在表面露出有第1膜和第2膜的基板上成膜氮化硅膜时，抑制第1膜或第2膜的氮化，且使第1膜上和第2膜上的各氮化硅的膜厚一致。[解决方案]实施如下工序：向基板供给由具有Si‑Si键的卤化硅构成的处理气体的工序...
    2024-11-13
  • 一种CVD设备及其供料系统
    一种CVD设备及其供料系统_湖南联合半导体科技有限公司_202420524359.8
    本实用新型公开了一种CVD设备的供料系统，其包括：MTS储液罐、进料罐、混料罐、反应腔进气管以及若干供气管；所述MTS储液罐通过第一进料管与所述进料罐连通，所述进料罐通过第二进料管与所述混料罐连通，若干所述供气管与连通至所述混料罐，所述反应...
    2024-11-13
  • 一种加热盘及薄膜沉积设备
    一种加热盘及薄膜沉积设备_拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司_202323567729.0
    本实用新型提供了一种加热盘，以及一种薄膜沉积设备。所述加热盘包括：支撑部，用于支撑待加工晶圆的底部；限位部，包围所述支撑部的外缘，用于限制所述晶圆在所述加热盘的位移；以及静电网，集成于所述支撑部内，用于向所述支撑部提供静电，以经由所述支撑部...
    2024-11-13
  • 一种镀锌钢板加工设备
    一种镀锌钢板加工设备_河北燕赵蓝天板业集团有限责任公司_202311800034.4
    本发明涉及镀锌钢板技术领域，提出了一种镀锌钢板加工设备，包括安装架和水冷槽，所述水冷槽底部设有释放槽，所述水冷槽内设有两个封盖机构，所述封盖机构包括旋转轴、两个从动锥齿轮、安装块和滤板，所述水冷槽两侧均设有两个传动机构，所述传动机构包括安装...
    2024-11-13
  • 板式CVD真空镀膜设备
    板式CVD真空镀膜设备_三一硅能(株洲)有限公司_202411150630.7
    本发明涉及真空镀膜技术领域，提供一种板式CVD真空镀膜设备，包括壳体组件、两组盖体组件和送料组件。两组盖体组件分别设于壳体组件相对的两侧，并与壳体组件围设形成镀膜腔；盖体组件包括盖本体以及设于盖本体的电极组件和供气组件。送料组件包括传输组件...
    2024-11-13
  • 一种易调整的高速护栏板镀锌工装
    一种易调整的高速护栏板镀锌工装_山东冠县华安交通设施有限公司_202420738387.X
    本实用新型提供一种易调整的高速护栏板镀锌工装，属于波形护栏板加工技术领域，以解决现有护栏板是使用挂钩进行悬挂的，因此在起吊过程中相邻两件护栏板容易产生晃动碰撞，对镀锌质量产生影响的问题，包括悬挂杆；下支撑架，所述下支撑架固定连接在四件支撑杆...
    2024-11-13
  • 多联体涡轮导向叶片等离子物理气相沉积涂层的喷涂方法
    多联体涡轮导向叶片等离子物理气相沉积涂层的喷涂方法_北京金轮坤天特种机械有限公司_202211699253.3
    本发明涉及一种多联体涡轮导向叶片等离子物理气相沉积涂层的喷涂方法，所述喷涂方法利用机械手以及双轴变位机进行，所述双轴变位机的转盘能够绕中心轴自转，且能够进行45°以下的倾转。本发明提供的制备方法采用等离子物理气相沉积，结合多联体涡轮导向叶片...
    2024-11-13
  • 一种含有SiO2、Ti的HUD膜及其制备工艺
    一种含有SiO<Sub>2</Sub>、Ti的HUD膜及其制备工艺_浙江日久新材料科技有限公司_202410983665.2
    本发明公开了一种含有SiO2、Ti的HUD膜及其制备工艺，含有SiO2、Ti的HUD膜包括依次层叠设置的基材层、打底层、TiO2层、金属层以及SiO2层...
    2024-11-13
  • 硬质涂膜切削工具
    硬质涂膜切削工具_韩国冶金株式会社_202280092649.3
    本发明的目的是提供一种具有优异的耐焊接性和耐磨性的硬质涂膜切削工具。为了实现上述目的，根据本发明的硬质涂膜切削工具包括：硬质基体材料；以及硬质膜，所述硬质膜形成在所述硬质基体材料上，其中：假设在所述硬质膜的前刀面，色度扩散反射率值为L
    2024-11-13
  • 具有包括含硼化物的扩散阻挡层的涂层的涂覆工具
    具有包括含硼化物的扩散阻挡层的涂层的涂覆工具_欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔_202080013015.5
    一种包括涂覆面的涂覆工具，涂覆面包括基材(1)，涂层(2)被沉积在基材所具有的表面上，其中，基材由含钴材料制成，并且其中，该涂层包括至少一个含硼层(20)，而所述至少一个含硼层(20)含有铝，该层所含的硼作为硼化物存在，因此该含硼层(20)...
    2024-11-13
  • 一种无掩膜的飞秒激光制造频率选择性吸波柔性薄膜材料的方法
    一种无掩膜的飞秒激光制造频率选择性吸波柔性薄膜材料的方法_上海大学_202410951979.4
    本发明涉及一种无需掩膜，直接用飞秒激光直写制备具有红外波段吸波微波波段透波的频率选择性柔性功能复合薄膜，属于频率选择性吸波材料制备领域。制备步骤如下：(1)利用磁控溅射法在聚酰亚胺基底上依次镀上不同厚度的金膜、二氧化硅膜、金膜，形成Pi‑A...
    2024-11-13
  • 一种海洋工程装备大型桩腿现场原位再制造方法及装置
    一种海洋工程装备大型桩腿现场原位再制造方法及装置_广东工业大学_202211450901.1
    本发明公开了一种海洋工程装备大型桩腿现场原位再制造方法，该方法采用热喷涂预置涂层、激光重熔、激光锻造的方法，减少了热输入，尤其是减少了桩腿基体的热输入，抑制了金属基体的热变形和热影响区微观组织晶粒的长大，抑制了粗大柱状晶的生长，提高了大型桩...
    2024-11-13
  • 一种混气进气装置
    一种混气进气装置_武汉市飞瓴光电科技有限公司_202411079556.4
    本发明涉及一种混气进气装置，其包括沿气流流向依次连接的进气端管件、成涡器和出气端管件；进气端管件靠近成涡器的一侧形成有混气室，进气端管件远离成涡器的一端形成有与混气室连通的进气孔；出气端管件形成有两端贯通的出气室；成涡器形成有至少一个分气孔...
    2024-11-13
  • 一种井式氮化炉
    一种井式氮化炉_陕西鑫泰工业炉机械设备有限公司_202323396721.2
    本实用新型公开了一种井式氮化炉，涉及氮化炉技术领域，该一种井式氮化炉，包括炉体，炉体上表面活动卡接有连接盖，炉体环型侧面转动连接有圆环块，连接盖上表面固定连接有电机，电机输出轴固定连接有十字块，炉体内固定连接有底盘，底盘上表面开设有孔洞二，...
    2024-11-13
  • 镀膜治具
    镀膜治具_东莞市宇瞳汽车视觉有限公司_202420172363.2
    本实用新型属于镀膜装置技术领域，公开了一种镀膜治具，包括圆环轨道、旋转架、镀膜架、装夹机构、中心轴和动力轮。旋转架设置在圆环轨道的中心处；若干镀膜架沿旋转架的周向间隔设置；沿镀膜架的延伸方向，于每个镀膜架上间隔设有若干装夹机构，装夹机构包括...
    2024-11-13
  • 一种用于CVD的多气源进气装置
    一种用于CVD的多气源进气装置_湖南联合半导体科技有限公司_202420524834.1
    本实用新型公开了一种用于CVD的多气源进气装置，其包括：同心设置第一进气管、第二进气管、第三进气管和喷嘴机构，第二进气管的内径大于第一进气管的外径，第三进气管的内径大于第二进气管的外径；喷嘴机构包括同心设置的第一喷气通道、第二喷气通道和第三...
    2024-11-13
  • 蒸镀系统及太阳能电池的生产设备
    蒸镀系统及太阳能电池的生产设备_江苏汇显显示技术有限公司_202411239233.7
    本申请公开了一种蒸镀系统及太阳能电池的生产设备，蒸镀系统包括蒸镀腔室、蒸镀源组件和至少一个沉积组件，蒸镀源组件具有和蒸镀腔室连通的蒸镀出口，用于向蒸镀腔室输入蒸发材料；沉积组件设置于蒸镀腔室中，沉积组件包括传动轴和承载件，传动轴可转动设置；...
    2024-11-13
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