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申请/专利权人：湖南联合半导体科技有限公司
摘要：本实用新型公开了一种CVD设备的供料系统，其包括：MTS储液罐、进料罐、混料罐、反应腔进气管以及若干供气管；所述MTS储液罐通过第一进料管与所述进料罐连通，所述进料罐通过第二进料管与所述混料罐连通，若干所述供气管与连通至所述混料罐，所述反应腔进气管也与所述混料罐连通；所述第二进料管上设置有液体流量计；所述混料罐设置有加热器。本实用新型能够精确地计量和控制MTS的用量，维持进入反应腔内的混合气体的均匀性和稳定性；避免了现有技术中利用鼓泡法供给MTS波动较大的问题。
主权项：1.一种CVD设备的供料系统，其特征在于，包括：MTS储液罐2、进料罐3、混料罐6、反应腔进气管7以及若干供气管8；所述MTS储液罐2通过第一进料管18与所述进料罐3连通，所述进料罐3通过第二进料管9与所述混料罐6连通，若干所述供气管8与连通至所述混料罐6，所述反应腔进气管7也与所述混料罐6连通；所述第二进料管9上设置有液体流量计5；所述混料罐6设置有加热器19。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 湖南联合半导体科技有限公司 一种CVD设备及其供料系统
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