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申请/专利权人：上海大学

摘要：本发明涉及一种无需掩膜，直接用飞秒激光直写制备具有红外波段吸波微波波段透波的频率选择性柔性功能复合薄膜，属于频率选择性吸波材料制备领域。制备步骤如下：1利用磁控溅射法在聚酰亚胺基底上依次镀上不同厚度的金膜、二氧化硅膜、金膜，形成Pi‑Au‑SiO2‑Au复合薄膜；2利用飞秒激光直写技术，对制备出的复合薄膜进行图案化刻蚀处理，刻蚀深度和形状由电脑程序进行控制；3将制备出的图案化复合薄膜进行吸波透波率性能测试。相比于现有的技术，本发明用一种较为简单的方式制备出红外吸波微波透波的柔性功能薄膜材料，对于红外隐身雷达领域具有重要的研究意义。

主权项：1.一种无掩膜的飞秒激光制造频率选择性吸波柔性薄膜材料的方法,其其特征在于，包括以下步骤：步骤一：搭建飞秒激光加工系统；飞秒激光加工系统由飞秒激光器、光阑、衰减片、光快门、双色镜、物镜、待加工材料、三维移动平台、电耦合元件、计算机组成，波长为1035nm、，脉冲宽度130fs、重复频率为5000Hz的飞秒激光由飞秒激光器产生后，经过光阑、衰减片、以及光快门后，由双色镜反射到物镜上，经过物镜的聚焦，将飞秒激光聚焦在待加工材料表面；步骤二：利用磁控溅射镀膜法在聚酰亚胺基底上先后镀上不同纳米厚度的金膜、二氧化硅膜、金膜，从而制备出Pi-Au-SiO2-Au复合薄膜；步骤三：利用飞秒激光直写加工技术，对步骤二制备出的复合薄膜材料进行激光图案化直写，所制备的图案为方柱结构，方柱高度为步骤二所镀金膜、二氧化硅膜、金膜三层膜的总深度。所述飞秒激光加工方柱时的激光能量为0.05-0.1Jcm2,加工速度为500-1500μms，间距为0.9-1.0mm；步骤四：用飞秒激光对步骤三制备出的材料进行进一步加工，对每一个方柱进行刻槽，将其加工成阵列排布的微纳方柱，微纳方柱高度为步骤二所镀金膜、二氧化硅膜两层膜的总深度。所述飞秒激光加工微纳方柱时的激光能量为0.01-0.05Jcm2,加工速度为500-1500μms，间距为0.8-1.2μm；步骤五：对步骤四飞秒激光制备出的复合材料进行吸波透波率性能测试，确保制备出的功能材料在红外波段的吸波率和微波波段的透过率达到预期要求。

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