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申请/专利权人：湖南联合半导体科技有限公司
摘要：本实用新型公开了一种用于内孔表面CVD涂层制备的装置，其包括：支撑环、承接板和沉积基座；所述承接板呈圆形，所述承接板的边缘搭接于所述支撑环上；所述承接板上设置有若干个通孔；所述沉积基座为圆筒型结构，其内腔为与待处理零件外形匹配的形状；所述沉积基座放置于所述承接板上且所述沉积基座的内腔与所述所述承接板的至少一个所述通孔连通。本实用新型通过强制对流的方式，实现了喷嘴类微细孔零件内孔表面涂层的大批量、高效率沉积，便于均匀、精确控制涂层厚度，有效提高设备利用率和生产效率，降低生产成本。
主权项：1.一种用于内孔表面CVD涂层制备的装置，其特征在于，包括：支撑环1、承接板2和沉积基座3；所述承接板2呈圆形，所述承接板2的边缘搭接于所述支撑环1上；所述承接板2上设置有若干个通孔2.1；所述沉积基座3为圆筒型结构，其内腔为与待处理零件5外形匹配的形状；所述沉积基座3放置于所述承接板2上且所述沉积基座3的内腔与所述承接板2的至少一个所述通孔2.1连通。
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百度查询： 湖南联合半导体科技有限公司 一种用于内孔表面CVD涂层制备的装置
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