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摘要:一种集成电路IC器件,具有其中实现多个存储器单元的存储器区。每个存储器单元沿着第一水平方向具有第一尺寸。IC器件包括沿着第一水平方向毗邻存储器单元区的边缘区。边缘区沿着第一水平方向具有第二尺寸。第二尺寸小于或者等于第一尺寸的约4倍。通过修改第一IC布局以生成第二IC布局来形成IC器件。通过缩减边缘区沿着第一水平方向的尺寸来生成第二IC布局。本申请的实施例还提供了一种集成电路布局和修改集成电路布局的方法。
主权项:1.一种集成电路器件,包括:存储器区,其中,所述存储器区包括多个存储器单元,并且其中,每个所述存储器单元沿着第一水平方向具有第一尺寸;以及边缘区,沿着所述第一水平方向毗邻所述存储器区,其中,所述边缘区沿着所述第一水平方向具有第二尺寸,并且其中,所述第二尺寸小于或者等于所述第一尺寸的约4倍。
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百度查询: 台湾积体电路制造股份有限公司 集成电路器件、集成电路布局和修改集成电路布局的方法
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