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申请/专利权人:安徽芯视佳半导体显示科技有限公司
摘要:本发明公开了一种高亮度MicroOLED显示器件的制作方法,包括如下步骤:1在基板表面沉积SIN;2对基板进行光刻胶涂布,再对基板进行曝光和显影;3对基板进行刻蚀;4对基板进行OC材料涂布;5对基板表面进行彩色滤光片光刻作业,在不增加工艺步骤的情况下,从而改善工艺串扰问题;在MicroOLED点亮时,亮度较原工艺提高30‑80%左右,大幅度提高此显示器件的亮度。
主权项:1.一种高亮度MicroOLED显示器件的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:1在基板表面沉积SIN;2对基板进行光刻胶涂布,再对基板进行曝光和显影;3对基板进行刻蚀;4对基板进行OC材料涂布;5对基板表面进行彩色滤光片光刻作业。
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