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一种类金刚石半导体材料及其合成方法 

申请/专利权人:华中科技大学

申请日:2022-08-16

公开(公告)日:2024-07-02

公开(公告)号:CN115432671B

主分类号:C01B19/00

分类号:C01B19/00

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.07.02#授权;2022.12.23#实质审查的生效;2022.12.06#公开

摘要:本发明属于半导体材料领域,公开了一种类金刚石半导体材料及其合成方法,该类金刚石半导体材料具体为Cu3‑xAgxInSnSe5半导体材料,其中,0≤x≤1。其晶格结构为正方结构,空间群为本发明通过对材料的组成、结构进行改进,将Cu2SnSe3与CuInSe2或AgInSe2这些不同的类金刚石化合物的四面体基元进行重新排列,得到多元的Cu3‑xAgxInSnSe5类金刚石半导体材料,具有四方结构并且,本发明制备方法成本低廉,可大规模推广应用。

主权项:1.一种类金刚石半导体材料,其特征在于,该半导体材料具体为Cu3-xAgxInSnSe5单相半导体材料,其中,0≤x≤1;所述Cu3-xAgxInSnSe5半导体材料的晶格结构为正方结构,空间群为I42d。

全文数据:

权利要求:

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