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摘要：本发明提供能够在包含挡板结构的基片处理装置中降低腔室内的污染的基片处理装置。基片处理装置包括：配置在基片支承部与腔室的侧壁之间的第一环状挡板；与第一环状挡板在纵向上与重叠地配置的第二环状挡板；和配置在腔室外的第一驱动单元，其包括第一致动器，第一致动器构成为能够通过使上述第二磁铁结构体在横向上旋转而使上述第一磁铁结构体在横向上旋转，通过第一磁铁结构体的横向上旋转而使第二环状挡板相对于第一环状挡板在横向上旋转。
主权项：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：具有侧壁的腔室；配置在所述腔室内的基片支承部；第一环状挡板，其配置在所述基片支承部与所述腔室的所述侧壁之间，具有上表面和下表面，所述第一环状挡板具有从所述上表面贯通至所述下表面的多个第一开口；第二环状挡板，其与所述第一环状挡板在纵向上重叠地配置，具有上表面、下表面和第一外侧边缘面，所述第二环状挡板具有从所述上表面贯通至所述下表面的多个第二开口，所述第二环状挡板包含配置在所述第一外侧边缘面的第一磁铁结构体；和配置在所述腔室外的第一驱动单元，所述第一驱动单元包括：第二磁铁结构体，其以隔着所述腔室的所述侧壁与所述第一磁铁结构体相对的方式配置；和第一致动器，其构成为能够通过使所述第二磁铁结构体在横向上旋转而使所述第一磁铁结构体在横向上旋转，通过所述第一磁铁结构体的横向的旋转而使所述第二环状挡板相对于所述第一环状挡板在横向上旋转。
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百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片处理装置
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