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摘要：本发明提供能够自动优化刷洗的条件的基片处理装置和基片处理方法。基片处理装置包括：刷处理部，其对从位于容器送入送出部的容器取出的基片的第二面进行刷处理；基片翻转部，其在由刷处理部处理前以及由刷处理部处理后将基片翻转；基片拍摄部，其针对基片的第二面，执行在基片被刷处理部处理前对其进行拍摄的处理前拍摄，并且执行在基片被刷处理部处理后且被送回容器之前对其进行拍摄的处理后拍摄；和控制部，控制部基于处理后拍摄的结果，判断已处理的基片是否为良品，并且基于处理前拍摄和处理后拍摄之中的至少一者，根据需要来变更执行了处理前拍摄的基片或者之后要处理的基片的、刷处理部中的刷处理的处理条件。
主权项：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：容器送入送出部，其能够载置收纳多个基片的容器，该多个基片以各自的第一面朝上且第二面朝下的状态被收纳；刷处理部，其使用刷子对所述基片的所述第二面进行用于研磨或异物去除的刷处理；基片翻转部，其将从所述容器取出的所述基片在由所述刷处理部处理前翻转而使所述第二面朝上，并且在由所述刷处理部对该基片进行了处理后且将其送回所述容器之前将该基片翻转而使所述第一面朝上；基片拍摄部，其针对从所述容器取出的所述基片的所述第二面，执行在该基片被所述刷处理部处理前对其进行拍摄的处理前拍摄，并且执行在该基片被所述刷处理部处理后且被送回所述容器之前对其进行拍摄的处理后拍摄；和控制部，所述控制部基于所述处理后拍摄的结果，判断已处理的基片是否为良品，并且基于所述处理前拍摄和所述处理后拍摄之中的至少一者，根据需要来变更执行了所述处理前拍摄的基片或者之后要处理的基片的、所述刷处理部中的刷处理的处理条件。
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百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片处理装置和基片处理方法
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