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申请/专利权人：富士胶片株式会社

摘要：本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。还提供一种使用了感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含酸分解性树脂及通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物，通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物包含1种以上的选自由化合物I～III组成的组中的化合物，选自由上述化合物I～III组成的组中的化合物的含量相对于组合物中的总固体成分超过20.0质量％。

主权项：1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其包含：通过酸的作用分解而极性增大的树脂；及通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物，所述通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物包含1种以上的选自由下述化合物I～III组成的组中的化合物，选自由所述化合物I～III组成的组中的化合物的含量相对于所述组合物中的总固体成分超过20.0质量％，所述通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物还包含1种以上的选自由下述通式1表示的化合物及由下述通式2表示的化合物组成的组中的化合物，由下述式1表示的含量比T为15.0～40.0，化合物I：是分别具有各1个下述结构部位X及下述结构部位Y，并且通过光化射线或放射线的照射，产生包含来源于下述结构部位X的下述第1酸性部位以及来源于下述结构部位Y的下述第2酸性部位的酸的化合物，结构部位X：由阴离子部位A1-及阳离子部位M1+组成，并且通过光化射线或放射线的照射，形成由HA1表示的第1酸性部位的结构部位，结构部位Y：由阴离子部位A2-及阳离子部位M2+组成，并且通过光化射线或放射线的照射，形成与通过所述结构部位X形成的所述第1酸性部位不同结构的由HA2表示的第2酸性部位的结构部位，其中，化合物I满足下述条件I，条件I：在所述化合物I中，将所述结构部位X中的所述阳离子部位M1+及所述结构部位Y中的所述阳离子部位M2+取代为H+而成的化合物PI具有：酸解离常数a1，其来源于将所述结构部位X中的所述阳离子部位M1+取代为H+而成且由HA1表示的酸性部位；以及酸解离常数a2，其来源于将所述结构部位Y中的所述阳离子部位M2+取代为H+而成且由HA2表示的酸性部位，并且，所述酸解离常数a2大于所述酸解离常数a1，化合物II：是具有所述结构部位Y及2个以上的所述结构部位X，并且通过光化射线或放射线的照射，产生包含来源于所述结构部位Y的所述第2酸性部位以及2个以上的来源于所述结构部位X的所述第1酸性部位的酸的化合物，其中，化合物II满足下述条件II，条件II：在所述化合物II中，将所述结构部位X中的所述阳离子部位M1+及所述结构部位Y中的所述阳离子部位M2+取代为H+而成的化合物PII具有：酸解离常数a1，其来源于将所述结构部位X中的所述阳离子部位M1+取代为H+而成且由HA1表示的酸性部位；以及酸解离常数a2，其来源于将所述结构部位Y中的所述阳离子部位M2+取代为H+而成且由HA2表示的酸性部位，并且，所述酸解离常数a2大于所述酸解离常数a1，化合物III：是具有下述结构部位Z及2个以上的所述结构部位X，并且通过光化射线或放射线的照射，产生包含所述结构部位Z以及2个以上的来源于所述结构部位X的所述第1酸性部位的酸的化合物，结构部位Z：能够中和酸的非离子性的有机部位， 上述通式1中，M3+表示有机阳离子，A3-表示阴离子性官能团，Ra表示氢原子或1价的有机基团，La表示单键或2价的连接基团， 上述通式2中，M4+表示硫离子或碘离子，m表示1或2，当M4+为硫离子时m为2，当M4+为碘离子时m为1，Rb分别独立地表示任选地含有杂原子的烷基或烯基、芳基或杂芳基，Lb表示2价的连接基团，A4-表示阴离子性官能团，另外，当m为2时，2个Rb任选地相互键合而形成环，式1：含量比T＝选自由所述化合物I～III组成的组中的化合物的以质量％计的含量选自由所述通式1表示的化合物及所述通式2表示的化合物组成的组中的化合物的以质量％计的含量。

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