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申请/专利权人：华海清科股份有限公司
摘要：本申请提供了一种旋转机构和晶圆清洗装置，涉及晶圆清洗技术领域，所述旋转机构包括：外端盖、内端盖、旋转轴和环形垫。外端盖和内端盖设置于旋转轴上，环形垫被夹持在外端盖与内端盖之间。旋转轴中设置有第一流道，外端盖上与环形垫相对的侧面设置有第二流道，内端盖上与环形垫相对的侧面设置有第三流道，第一流道分别与第二流道和第三流道连通。第一流道，用于分别向第二流道和第三流道输送流体，流体通过第二流道和第三流道分别流经环形垫的第一侧面和第二侧面，并从环形垫远离旋转轴的一侧流出。本方案可以避免晶圆被污染或磨损。
主权项：1.一种旋转机构，用于晶圆清洗装置，其特征在于，所述旋转机构包括：外端盖、内端盖、旋转轴和环形垫；所述外端盖和所述内端盖设置于所述旋转轴上，所述环形垫被夹持在所述外端盖与所述内端盖之间；所述旋转轴中设置有第一流道，所述外端盖上与所述环形垫相对的侧面设置有第二流道，所述内端盖上与所述环形垫相对的侧面设置有第三流道，所述第一流道分别与所述第二流道和所述第三流道连通；所述第一流道，用于分别向所述第二流道和所述第三流道输送流体，所述流体通过所述第二流道和所述第三流道分别流经所述环形垫的第一侧面和第二侧面，并从所述环形垫远离所述旋转轴的一侧流出。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 华海清科股份有限公司 旋转机构和晶圆清洗装置
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