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用于合成SGLT抑制剂的中间体和使用该中间体制备SGLT抑制剂的方法 

申请/专利权人:株式会社大熊制药

申请日:2021-02-26

公开(公告)日:2024-07-05

公开(公告)号:CN115087649B

主分类号:C07D307/82

分类号:C07D307/82;A61K31/343;C07H1/02;C07H17/04

优先权:["20200227 KR 10-2020-0024525"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.07.05#授权;2022.10.11#实质审查的生效;2022.09.20#公开

摘要:本发明提供一种可用于合成SGLT抑制剂的中间体以及使用该中间体制备SGLT抑制剂的方法。根据本发明,通过开发对应于新中间体的化学式5的化合物,可以解决现有工艺纯化的困难,相关物质的质量可以仅与一个纯化步骤匹配,并且可以通过原位执行多个步骤来解决每个步骤中的质量控制问题。根据本发明,使用化学式5化合物合成化学式1化合物的方法能够在合成化学式5化合物的步骤中进行纯化,从而解决现有合成工艺中由于连续过程而难以逐步控制相关物质质量的问题,以及尽量减少最终产品中相关物质的含量。此外,随着纯化步骤次数的增加,可以简化该过程,因为纯化不必像现有技术那样在一个步骤中执行两次或多次,从而最大化化学式1的二苯基甲烷衍生物的生产产率。

主权项:1.一种以下化学式5的化合物:[化学式5] 其中,n为1,X是Cl,B是

全文数据:

权利要求:

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