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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种可调节PN型的SiC光子晶体制备方法
    一种可调节PN型的SiC光子晶体制备方法_华南师范大学_202410967062.3
    本发明涉及光电子器件技术领域，具体公开了一种可调节PN型的SiC光子晶体制备方法，包括以下步骤，衬底准备与掩膜层生长、涂胶、曝光与显影、电子束刻蚀(ICP)与后续处理、高温离子注入与激活、去除SiO2掩膜层、生长新的S...
    2024-11-15
  • 一种掩膜装置、掩膜装置的制作方法和光刻设备
    一种掩膜装置、掩膜装置的制作方法和光刻设备_深圳莱宝高科技股份有限公司_202310500530.1
    本发明涉及光刻领域，公开了一种掩膜装置，包括由相邻设置的相移区和全透区的透明底板，相移区为具有遮光层和相移层的相移单元，遮光层设置在相移层的两侧，遮光层之间的距离小于或等于相移层的宽度，且相移层的宽度小于两侧的遮光层宽度与其间隙之和，从两个...
    2024-11-15
  • 一种OPC结果验证方法、装置、设备及存储介质
    一种OPC结果验证方法、装置、设备及存储介质_华芯程(杭州)科技有限公司_202411407788.8
    本申请公开了一种OPC结果验证方法、装置、设备及存储介质，涉及微电子版图数据光学修正技术领域，包括：获取OPC修正后的光刻图形；检测所述光刻图形的特征尺寸受到曝光强度的影响，得到所述光刻图形在边缘位置处的图像对数斜率；分别判断各个边缘位置处...
    2024-11-15
  • 一种紫外固化的纳米压印胶及其制备方法
    一种紫外固化的纳米压印胶及其制备方法_青岛天仁微纳科技有限责任公司_202311535515.7
    本发明涉及一种紫外固化的纳米压印胶及其制备方法。所述紫外固化的纳米压印胶包括以下组分，以重量份计：树脂5～20份、改性聚氨酯树脂5～10份、紫外光引发剂1～5份、聚丙烯酰胺1～3份、纳米二氧化硅气溶胶1～3份、乙二醇单异丙基醚30～50份、...
    2024-11-15
  • 一种新型投影灯
    一种新型投影灯_天津市飞乐汽车照明有限公司_202411142565.3
    本发明公开了光通过的通孔，安置盒内装配有投影盒，投影盒的中心处开设有直径与安置盒上通孔直径相等的圆形孔，投影盒内装配有图案更换组件，图案更换组件包括卷轴，卷轴覆盖在投影盒的圆形孔上，且卷轴上等距刻设多个图案，灯珠的光穿过通孔以及圆形孔照射在...
    2024-11-15
  • 感光构件单元、盒和电子照相成像设备
    感光构件单元、盒和电子照相成像设备_佳能株式会社_202411312309.4
    [技术问题]提供感光构件单元的进一步改进。[技术手段]本公开提供了一种感光构件单元，成像设备包括能够同轴旋转的第一主组件侧斜齿轮部分和第二主组件侧斜齿轮部分，感光构件单元包括：能够围绕其旋转轴线旋转的感光构件；第一单元侧斜齿轮部分；以及第二...
    2024-11-15
  • 感光构件单元、盒和电子照相成像设备
    感光构件单元、盒和电子照相成像设备_佳能株式会社_202411312322.X
    [技术问题]提供感光构件单元的进一步改进。[技术手段]本公开提供了一种感光构件单元，成像设备包括能够同轴旋转的第一主组件侧斜齿轮部分和第二主组件侧斜齿轮部分，感光构件单元包括：能够围绕其旋转轴线旋转的感光构件；第一单元侧斜齿轮部分；以及第二...
    2024-11-15
  • 感光构件单元、盒和电子照相成像设备
    感光构件单元、盒和电子照相成像设备_佳能株式会社_202411312336.1
    [技术问题]提供感光构件单元的进一步改进。[技术手段]本公开提供了一种感光构件单元，成像设备包括能够同轴旋转的第一主组件侧斜齿轮部分和第二主组件侧斜齿轮部分，感光构件单元包括：能够围绕其旋转轴线旋转的感光构件；第一单元侧斜齿轮部分；以及第二...
    2024-11-15
  • 感光构件单元、盒和电子照相成像设备
    感光构件单元、盒和电子照相成像设备_佳能株式会社_202411312304.1
    [技术问题]提供感光构件单元的进一步改进。[技术手段]本公开提供了一种感光构件单元，成像设备包括能够同轴旋转的第一主组件侧斜齿轮部分和第二主组件侧斜齿轮部分，感光构件单元包括：能够围绕其旋转轴线旋转的感光构件；第一单元侧斜齿轮部分；以及第二...
    2024-11-15
  • 透镜驱动装置、相机模块以及光学设备
    透镜驱动装置、相机模块以及光学设备_LG伊诺特有限公司_202411108357.1
    本实施方式涉及透镜驱动装置、相机模块以及光学设备，该透镜驱动装置包括：第一壳体；第二壳体；线圈架；光圈；第一线圈、第二线圈、第三线圈和第四线圈；第一磁体；第二磁体；第三磁体；以及第四磁体，其中：第一线圈、第二线圈、第三线圈和第四线圈被布置成...
    2024-11-15
  • 工业相机激光发射器散热结构
    工业相机激光发射器散热结构_上海芯歌智能科技有限公司_202420603780.8
    本实用新型揭示了一种工业相机激光发射器散热结构，所述工业相机包括一壳体、激光发射器、图像采集元件及与激光发射器和图像采集元件配合的光学透镜，其中所述激光发射器设于壳体内部，所述工业相机激光发射器散热结构包括一激光器安装支架，安装在散热器外围...
    2024-11-15
  • 一种废粉盒
    一种废粉盒_珠海好印宝打印耗材有限公司_202420249346.4
    本实用新型公开了一种废粉盒，包括面壳、底壳以及搅拌辊；面壳的外圈设置有第一焊接槽，中段间隔设置有若干个第二焊接槽；底壳的外圈设置有第一焊接块，中段间隔设置有若干个第二焊接块，第一焊接块和第二焊接块分别插设于第一焊接槽和第二焊接槽内且通过超声...
    2024-11-15
  • 图像形成装置
    图像形成装置_佳能株式会社_202010749718.6
    本发明公开了图像形成装置。一种图像形成装置包括：图像形成部，在记录材料上形成调色剂图像；定影部，具有包括加热器的加热器单元，并且该定影部将调色剂图像定影在记录材料上，该加热器能够改变发热区域；控制部，控制加热器；以及图像添加部，将预定的附加...
    2024-11-15
  • 一种硒鼓的加粉装置
    一种硒鼓的加粉装置_珠海轩威科技有限公司_202323615081.X
    本实用新型涉及硒鼓再生技术领域，具体为一种硒鼓的加粉装置，包括下料管，所述下料管的上方连接有导料斗，所述导料斗的内部连接有安装架，所述安装架的内部开设有安装孔，所述下料管和导料斗的内部以及导料斗的外部均设置有疏通机构。该硒鼓的加粉装置，操作...
    2024-11-15
  • 一种显影盒
    一种显影盒_珠海益之印科技有限公司_202380028930.5
    本发明公开了一种显影盒，该显影盒能够可拆卸地安装于成像设备的主组件中。本发明公开的一些实施例中，显影盒包括：盒体；驱动力接收单元，包括联接件，设置在显影盒的第一端，能够从成像设备接收驱动力；驱动构件，设置在显影盒的第一端，能够接收驱动力而移...
    2024-11-15
  • 用于相机的驱动装置及包括用于相机的驱动装置的相机模块
    用于相机的驱动装置及包括用于相机的驱动装置的相机模块_三星电机株式会社_202323448003.5
    本公开涉及用于相机的驱动装置，该驱动装置包括：第一框架，包括在与光轴交叉的第一方向上延伸的第一球引导部；第二框架，包括与第一球引导部相对应并在与光轴和第一方向交叉的第二方向上延伸的第二球引导部；球构件，设置在第一球引导部和第二球引导部之间；...
    2024-11-15
  • 遮光板、照相机单元、电子仪器以及遮光板的制造方法
    遮光板、照相机单元、电子仪器以及遮光板的制造方法_凸版印刷株式会社_202080050797.X
    具有：表面，其位于光的入射侧；背面，其是表面的相反侧的面；以及孔，其将表面与背面之间贯通。孔具有：第1孔部分；以及第2孔部分，其在中央开口与第1孔部分连接，第1孔部分从背面的背面开口延伸至中央开口，具有从背面朝向表面而前端缩细的形状。第2孔...
    2024-11-15
  • 掩膜版及其形成方法
    掩膜版及其形成方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202411415184.8
    本申请公开了掩膜版及其形成方法，该掩膜版包括：透明基板；掩膜图形层，位于所述透明基板的表面，包括用于形成器件结构的芯片区和在所述芯片区之外设置的用于形成对位标记的标记区；其中，所述标记区的遮光率根据所述标记区所布局图形的线宽确定，所述标记区...
    2024-11-15
  • 透射式滤波器及其制备方法、EUV光刻机
    透射式滤波器及其制备方法、EUV光刻机_四川禾丰光芯科技有限公司_202410591508.7
    本发明公开了一种透射式滤波器及其制备方法、EUV光刻机。透射式滤波器包括一个或多个滤波器单元，每个滤波器单元包括：衬基框架，包围中心开口；支撑层，跨越所述中心开口支撑在所述衬基框架上；滤波层，设置在所述支撑层上，所述滤波层包括形成在所述中心...
    2024-11-15
  • 选择与衬底上的测量或特征相关联的部位的集合
    选择与衬底上的测量或特征相关联的部位的集合_ASML荷兰有限公司_202110630682.4
    本发明提供一种选择衬底上用于测量或特征的部位的最优集合的方法，该方法包括：(302)：限定约束条件，并且可选地限定成本函数。(306)：限定部位的第一候选方案。(308)：基于对所述第一候选方案的方案域中的坐标的修改，限定具有部位的第二候选...
    2024-11-15
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