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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本发明提供了一种用于维持铝合金本色的无铬环保钝化液,由锆盐溶液、钛盐溶液、硝酸溶液、固体有机酸络合剂、固体纳米二氧化硅、纯净水制备而成。本发明还提供了一种用于维持铝合金本色的无铬环保钝化液的制备方法,将纯净水加热至45℃,依次加入锆盐溶液、...
  • 本发明涉及涂层制备技术领域,具体涉及一种通过Zr/Zr2N/ZrN多层涂层提高钛合金表面耐腐蚀磨损性能的方法,Zr中间层可以减少涂层缺陷,提高涂层致密性,并且可以优先产生钝化膜,阻碍腐蚀介质扩散,提高涂层耐腐蚀性能;同...
  • 本发明提供了一种高速镀锡时减薄三角导电丝锡层厚度的装置,该装置包括过线杆、V槽轮及平槽轮,过线杆设置于锡液面附近,在锡液中沾锡后穿出的三角导电丝先经过过线杆刮除底面的沾锡,然后两个侧面的沾锡经过V形槽挤压绕向底面,底面上的沾锡再经过平槽轮挤...
  • 本公开涉及一种蒸发源裂解管、蒸发源装置以及沉积装置,蒸发源裂解管包括管体、加热器以及多个形成在管体内的裂解通道,加热器用于对管体进行加热,每个裂解通道均沿管体的长度方向贯穿管体,且相邻两个裂解通道之间存在间隔且独立设置。本方案提供的蒸发源裂...
  • 本申请涉及一种预涂层钢板及其制备方法,所述方法包括:将具有设定化学成分的铸坯进行加热和轧制,得到热轧板;将所述热轧板进行第一卷取,并控制所述第一卷取的温度,以使所述热轧板的组织中析出部分TiC粒子,后进行酸洗,得到酸洗卷;将所述酸洗卷进行连...
  • 本发明涉及光伏焊带加工技术领域,且公开了一种光伏焊带风刀位置自动调节装置,包括轨座和活动支架,所述活动支架的外侧设置有竖直微调组件,所述竖直微调组件的中部固定安装有架板,所述架板的底侧固定安装有圆形风刀,所述轨座的顶部设置有激光校准组件,所...
  • 本发明公开了一种制备硅碳材料的取热式化学气相沉积方法,属于硅碳材料技术领域。该方法包括:于取热式化学气相沉积装置中进行硅碳材料的制备;该装置包括反应器主体和控温系统;反应器主体包括加热区和反应区;控温系统包括用于对加热区进行加热的加热设备、...
  • 本发明公开了一种送丝组件及真空蒸镀设备,属于真空蒸镀技术领域,包括一种送丝组件,包括导管,其内设置金属丝移动的路径,用于将金属丝从管出口输出至蒸发平面上方;在导管上设置进气组件,用于输入惰性气体;至少对应的在管出口内壁设置凸壁结构,凸壁结构...
  • 本发明具体涉及一种超硬复合薄膜材料及其制备方法,包括S1.对基底材料进行清洗,然后对基底进行加热除气,表面粗化;S2.在真空腔室内安装Cr靶材和CrN靶材,抽真空至所需的低气压环境,配置溅射参数,控制每层Cr沉积层和CrN沉积层的目标厚度,...
  • 本发明涉及电池材料领域,具体为一种通过磁控溅射ZnBi合金改善锂金属负极的方法,包括以下步骤:1)选择适用于锂金属负极的基片,清洗干燥,备用;2)按比例称取Zn粉和Bi粉,混合均匀后采用真空熔炼发或者粉末冶金法制备ZnBi合金靶材;3)将Z...
  • 本实用新型公开了一种陶瓷基火焰筒、大弯管、涡轮外环通用喷涂防护装置,包括可连接旋转装置的基座、支撑架、夹持部件,所述夹持部件安装在支撑架上端,所述基座安装在支撑架下端,所述夹持部件包括开有中心圆孔的基盘和安装在基盘上通过轴向施压固定零件的限...
  • 本发明公开了一种兼具高硬度、高耐磨性AlCrMoSiN梯度涂层的制备工艺,属于涂层技术领域。该梯度涂层是通过线性调节靶功率从而控制Mo含量呈梯度变化的,梯度涂层的靶功率调节范围为:下限为0.4kW、上限为0.7~1.2kW(线性)。该涂层是...
  • 本发明涉及热电偶防腐领域,公开了热电偶表面防腐工艺,包括步骤S1‑S4。通过控制火焰喷射装置枪嘴与保护管之间的距离,实现短行程的处理方式,使得金属粉末中部分颗粒未完全熔解,以颗粒状的形式附着于保护管的外表面,颗粒状的凸起及颗粒间的空隙空气在...
  • 本发明涉及一种旋架镀膜机及其镀膜方法,包括真空腔室、溅射装置、太阳轴、旋转支架、太阳轴驱动装置,多个行星轴、多个镀膜品挂架、致摆件、多个从动件、多个引导磁铁和多个受引导磁铁,旋转支架固定安装在太阳轴上,真空腔室腔体处在溅射口正对的区域构成溅...
  • 本发明涉及涂层技术领域,尤其是涉及一种AlCrVTiSiCN涂层及其制备方法和刀具,所述AlCrVTiSiCN涂层包括由内至外依次设置在基体表面的CrN过渡层和AlCrVTiSiCN顶层,所述CrN过渡层与所述基体结合,所述AlCrVTiS...
  • 本发明涉及一种均热板钝化剂及其应用;属于均热板加工技术领域。所述钝化剂为液态钝化剂或气态钝化剂;所述气态钝化剂由水蒸气和添加剂混和组成,其中添加剂由稳定剂和强化剂两种组份构成,液态钝化剂为酸性溶液,特别地所述酸性溶液由水和添加剂构成,所述添...
  • 本发明涉及一种半导体设备用聚焦环的制备方法及装置,制备方法包括步骤一:预备沉积装置,将沉积装置置于化学气相沉积炉内;步骤二:对化学气相沉积炉进行加热,将气相沉积炉内加热至950‑1300℃,向气相沉积炉内通入甲基三氯硅烷(MTS)和氢气(H...
  • 本发明涉及镀锅更换辅助技术领域,具体为一种蒸镀机用镀锅更换辅助机构,包括工艺腔,所述工艺腔的上表面内部安装有安装盘;所述工艺腔左右两侧均安装有将空间隔断的闸板阀;镀锅本体的上方安装有连接法兰本体;所述放置托板的后侧上方安装有齿条本体,齿条本...
  • 本申请提供一种半导体工艺设备,涉及半导体设备技术领域。半导体工艺设备包括工艺腔体。工艺腔体包括本体、加热盘、喷淋板和隔热板。加热盘设置于工艺腔体内,且与本体的底壁间隔设置,喷淋板与加热盘间隔且对应设置。本体设置有用于与传输腔体连通的传输通道...
  • 本发明涉及通过脉冲激光沉积法形成具有高介电常数和在可见光范围内具有高光学透射率的薄膜(Ga 0.5%,Cu 8%)共掺杂ZnO。该方法的步骤包括将安装在样品架上的基于蓝宝石的衬底安置到脉冲激光沉积室中;并在所述室内安置含有经设计的Ga和Cu...
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