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摘要：本发明涉及图案形成方法。本发明提供一种图案形成方法，借由使用对比已知的KrF抗蚀剂具有优良的干蚀刻耐性且成膜性及基板密合性优异的抗蚀剂下层膜形成用组成物，能够以高精度形成阶梯形状图案。一种图案形成方法，具有下列步骤：在被加工基板上利用抗蚀剂下层膜形成用组成物形成抗蚀剂下层膜，在抗蚀剂下层膜上形成抗蚀剂中间膜，在抗蚀剂中间膜上形成抗蚀剂上层膜，在抗蚀剂上层膜形成图案，在抗蚀剂中间膜转印图案，在抗蚀剂下层膜转印图案，在被加工基板形成图案，将抗蚀剂下层膜予以修整，在被加工基板形成阶梯形状的图案；就前述抗蚀剂下层膜形成用组成物而言，含有树脂、及有机溶剂，且使用下式1表示者作为树脂。

主权项：1.一种图案形成方法，是在被加工基板形成图案的方法，其特征为：具有下列步骤，I-1在被加工基板上涂布抗蚀剂下层膜形成用组成物后，利用热处理形成抗蚀剂下层膜，I-2在该抗蚀剂下层膜上，形成含硅抗蚀剂中间膜，I-3在该含硅抗蚀剂中间膜上使用光致抗蚀剂材料形成抗蚀剂上层膜，I-4将该抗蚀剂上层膜进行图案曝光后，以显影液显影而在该抗蚀剂上层膜形成图案，I-5将该已形成图案的抗蚀剂上层膜作为掩膜，以干蚀刻在该含硅抗蚀剂中间膜转印图案，I-6将该已转印图案的含硅抗蚀剂中间膜作为掩膜，以干蚀刻在该抗蚀剂下层膜转印图案，I-7将该已转印图案的抗蚀剂下层膜作为掩膜，将该被加工基板加工而在该被加工基板形成图案，I-8将该已转印图案的抗蚀剂下层膜予以修整，I-9将该经修整的抗蚀剂下层膜图案作为掩膜，将该被加工基板加工而在该被加工基板形成阶梯形状的图案，就该抗蚀剂下层膜形成用组成物而言，含有A树脂、及B有机溶剂，就该A树脂而言，使用具有下列通式1表示的构成单元，且当该A树脂中含有的苯酚性羟基的比例为a、苯酚性羟基被修饰的基团的比例为b时，符合a+b＝1、0.1≤a≤0.5、0.5≤b≤0.9的关系者， 通式1中，R01为也可经取代的碳数1～30的饱和或不饱和的1价有机基团，R02为氢原子或也可经取代的碳数1～30的饱和或不饱和的1价有机基团，X为碳数1～30的2价有机基团，p为0或1，p为0时，m2为0～3的整数，n2为1～4的整数，m2+n2为1以上4以下的整数，p为1时，m2为0～5的整数，n2为1～6的整数，m2+n2为1以上6以下的整数。

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