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一种探针卡用氮化钽薄膜电阻的制造工艺 

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申请/专利权人:南京云极芯半导体科技有限公司

摘要:本发明提供一种探针卡用氮化钽薄膜电阻的制造工艺,包括以下步骤:步骤10,对陶瓷基板进行研磨和清洗;步骤20,在陶瓷基板的背面进行干膜压覆和曝光,在陶瓷基板的正面进行光刻涂胶、曝光和显影,形成电阻电路图形;步骤30,采用等离子表面处理方法,对电阻电路图形表面进行处理;步骤40,利用磁控溅镀方法,在电阻电路图形上沉积形成氮化钽薄膜电阻;步骤50,去除干膜和光刻胶。本发明提供的一种探针卡用氮化钽薄膜电阻的制造工艺,减小电阻尺寸,满足探针卡高密度要求,提高探针卡的质量和性能。

主权项:1.一种探针卡用氮化钽薄膜电阻的制造工艺,其特征在于,包括以下步骤:步骤10,对陶瓷基板进行研磨和清洗;步骤20,在陶瓷基板的背面进行干膜压覆和曝光,在陶瓷基板的正面进行光刻胶涂敷、曝光和显影,形成电阻电路图形;步骤30,采用等离子表面处理方法,对电阻电路图形表面进行处理;步骤40,利用磁控溅镀方法,在电阻电路图形上沉积形成氮化钽薄膜电阻;步骤50,去除干膜和光刻胶。

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