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申请/专利权人:上海玻璃钢研究院有限公司
摘要:本发明公开了一种低吸水率氮化硼陶瓷及其制备方法,属于陶瓷制备领域。针对现有氮化硼陶瓷吸水率高影响其透波性的问题,本发明提供了一种低吸水率氮化硼陶瓷的制备方法,包括将氮化硼陶瓷基体进行煮沸后烘干,在硅溶胶中进行第一次真空浸渍;将浸泡在硅溶胶的氮化硼陶瓷基体进行原位凝胶后,逐步升温干燥并清除其表面凝胶;将清除表面凝胶后的氮化硼陶瓷基体依次进行烧结和第二次真空浸渍;将第二次真空浸渍后的氮化硼陶瓷基体干燥处理后即得到低吸水率氮化硼陶瓷。本发明整个制备工艺过程简单,过程可控,易于实施,有利于工业化生产,且制备的氮化硼陶瓷致密度高,吸水率低,介电性能和抗热震优异,可用于制备航空航天透波材料部件。
主权项:1.一种低吸水率氮化硼陶瓷的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:S1:将氮化硼陶瓷基体进行煮沸后烘干,在硅溶胶中进行第一次真空浸渍;S2:将浸泡在硅溶胶中的氮化硼陶瓷基体进行清除其表面凝胶;S3:将清除表面凝胶后的氮化硼陶瓷基体依次进行烧结和第二次真空浸渍;其中,采用有机硅树脂对清除表面凝胶后的氮化硼陶瓷基体进行第二次真空浸渍;S4:将第二次真空浸渍后的氮化硼陶瓷基体干燥处理后即得到低吸水率氮化硼陶瓷。
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权利要求:
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