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申请/专利权人：株式会社斯库林集团
摘要：基板处理装置100具备：腔室112；基板保持部120，其在腔室112内保持基板W，并使基板W旋转；处理液供给部130，其向基板W的上表面Wt供给处理液；近红外线光源140，其利用近红外线对腔室112内进行照射；近红外拍摄部150，其生成拍摄被来自近红外线光源140的近红外线照射的腔室112内的处理液而得的拍摄图像；及控制部102，其基于拍摄图像来确定出腔室112内的处理液的外缘。
主权项：1.一种基板处理装置，其中，具备：腔室；基板保持部，其在上述腔室内保持基板且使上述基板旋转；处理液供给部，其向上述基板的上表面供给处理液；近红外线光源，其利用近红外线对上述腔室内进行照射；近红外拍摄部，其生成拍摄被来自上述近红外线光源的上述近红外线照射的上述腔室内的上述处理液而得到的拍摄图像；及控制部，其基于上述拍摄图像而确定出上述腔室内的上述处理液的外缘。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社斯库林集团 基板处理装置及基板处理方法
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