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基板处理装置及基板处理方法 

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申请/专利权人:株式会社斯库林集团

摘要:本发明提供一种能够减少基板的搬运进入待机状态的基板处理装置和基板处理方法。在将对基板进行曝光处理的前工序的处理的前处理部和进行后工序的处理的后处理部与两台曝光装置连接的接口部,配置有复数个搬运机械手和复数个模块。接口部有向一台曝光装置搬运基板的第一搬运路径和向另一台曝光装置搬运基板的第二搬运路径。使基板在作为相对短的搬运路径的第一搬运路径所包括的第一调温器中的处理时间仅延长规定的延迟时间。能够使沿着第一搬运路径搬运基板所需的时间与沿着第二搬运路径搬运基板所需的时间大体一致,能够减少基板在第一搬运路径中的搬运进入待机状态。

主权项:1.一种基板处理装置,对一批次所包括的复数张基板依次进行曝光处理的前工序的处理,并进行曝光处理的后工序的处理,其中,所述基板处理装置具有:前处理部,执行所述前工序的处理;后处理部,执行所述后工序的处理;接口部,将所述前处理部和所述后处理部与第一曝光装置和第二曝光装置连接,具有搬运基板的复数个搬运机械手和复数个模块;以及控制部,控制所述复数个搬运机械手和所述复数个模块,从所述前处理部经所述第二曝光装置到达所述后处理部的第二搬运路径比从所述前处理部经所述第一曝光装置到达所述后处理部的第一搬运路径长,所述一批次所包括的所述复数张基板交替地沿着所述第一搬运路径或所述第二搬运路径被搬运,所述控制部使基板在所述第一搬运路径所包括的特定模块中的处理时间仅延长规定的延迟时间。

全文数据:

权利要求:

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