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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供一种基板处理系统、基板处理装置以及基板处理方法，使通过含金属的抗蚀膜的形成、曝光以及显影等处理形成的图案的线宽在基板组之间均匀化。基板处理系统对基板进行图案形成，所述基板处理系统由被依次搬送用于收容所述基板的搬送容器的多个装置构成，所述基板处理系统具备：第一装置，其构成所述多个装置中的一个装置，用于在所述基板形成含金属的抗蚀膜；第二装置，其构成所述多个装置中的另一个装置，用于对被进行了曝光的所述含金属的抗蚀膜进行显影；以及气氛调整部，其将被进行显影之前的、形成有所述含金属的抗蚀膜的多个所述基板收容于收容空间，并对所述收容空间的气氛进行调整，以调整各所述基板的含金属的抗蚀膜的反应进度。
主权项：1.一种基板处理系统，对基板进行图案形成，所述基板处理系统由被依次搬送用于收容所述基板的搬送容器的多个装置构成，其中，所述基板处理系统具备：第一装置，其构成所述多个装置中的一个装置，用于在所述基板形成含金属的抗蚀膜；第二装置，其构成所述多个装置中的另一个装置，用于对被进行了曝光的所述含金属的抗蚀膜进行显影；以及气氛调整部，其将被进行显影之前的、形成有所述含金属的抗蚀膜的多个所述基板收容于收容空间，并对所述收容空间的气氛进行调整，以调整各所述基板的含金属的抗蚀膜的反应进度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理系统、基板处理装置以及基板处理方法
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