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申请/专利权人：京东方华灿光电(苏州)有限公司
摘要：本公开提供了一种真空系统及化学气相沉积设备，属于半导体制备设备领域。该真空系统，应用于化学气相沉积设备，真空系统包括缓冲罐、多个真空泵、多个腔体连接管路和多个蝶阀；多个真空泵分别与缓冲罐相连；多个腔体连接管路的第一端分别与缓冲罐相连，多个腔体连接管路的第二端用于连接化学气相沉积设备的反应腔，每个腔体连接管路上安装有蝶阀。本公开能够提高化学气相沉积设备的工作效率。
主权项：1.一种真空系统，其特征在于，应用于化学气相沉积设备，所述真空系统包括缓冲罐10、多个真空泵20、多个腔体连接管路30和多个蝶阀40；多个所述真空泵20分别与所述缓冲罐10相连；多个所述腔体连接管路30的第一端分别与所述缓冲罐10相连，多个所述腔体连接管路30的第二端分别与所述化学气相沉积设备的反应腔100连接，每个所述腔体连接管路30上安装有所述蝶阀40。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 京东方华灿光电(苏州)有限公司 真空系统及化学气相沉积设备
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