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申请/专利权人：福建金石能源有限公司
摘要：本发明公开了一种气相沉积装置，涉及气相沉积技术领域。该气相沉积装置包括加热底座和承载框，承载框开设有让位空腔，承载框用于承载硅片，以使硅片遮蔽让位空腔，承载框放置于加热底座上，加热底座凸设有顶撑部，顶撑部设置于让位空腔的中部，且穿过让位空腔设置，顶撑部用于对硅片的中部进行支撑，以使硅片的边缘搭接于承载框上而不会发生翘曲。本发明提供的气相沉积装置通过顶撑部对硅片的中部进行支撑，以防止硅片出现中间下凹，两边翘起的变形情况，保证硅片的边缘搭接于承载框上而不会发生翘曲，从而有效避免绕镀现象的发生，保证电池质量。
主权项：1.一种气相沉积装置，其特征在于，包括加热底座和承载框，所述承载框开设有让位空腔，所述承载框用于承载硅片，以使所述硅片遮蔽所述让位空腔，所述承载框放置于所述加热底座上，所述加热底座凸设有顶撑部，所述顶撑部设置于所述让位空腔的中部，且穿过所述让位空腔设置，所述顶撑部用于对所述硅片的中部进行支撑，以使所述硅片的边缘搭接于所述承载框上而不会发生翘曲；所述气相沉积装置还包括布气盒，所述布气盒平行间隔地设置于所述加热底座的上方，所述布气盒开设有多个进气通道，多个所述进气通道平行间隔设置，且均垂直于所述加热底座设置，所述进气通道用于供反应气体通入；所述气相沉积装置还包括绝缘框，所述绝缘框连接于所述布气盒的底部，且设置于所述布气盒的边缘，所述绝缘框与所述加热底座间隔设置，且形成溢流通道，所述溢流通道用于供反应气体流出；所述绝缘框的横截面呈倒梯形设置，所述绝缘框设置有导流斜面，所述溢流通道设置于所述导流斜面和所述加热底座之间，所述导流斜面与所述布气盒的底面之间形成预设夹角，所述预设夹角小于或者等于45度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 福建金石能源有限公司 一种气相沉积装置
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