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申请/专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
摘要：本发明公开了一种具有研磨一致性终点检测窗的抛光垫及其应用，所述抛光垫包括具有抛光表面的抛光层，所述抛光层表面设有终点检测窗和三种不同形式的沟槽结构，其中，第一沟槽为抛光层表面的同心圆形圆周向沟槽；第二沟槽为围绕窗口周围的闭环状沟槽；第三沟槽为分布在终点检测窗与第二沟槽之间的不连续性沟槽。本发明的抛光垫能够避免抛光过程中由于检测窗所造成的研磨不一致性，极大降低划伤和非均匀比率。
主权项：1.一种具有研磨一致性终点检测窗的抛光垫，包括具有抛光表面的抛光层，其特征在于，所述抛光层表面包括终点检测窗和三种不同形式的沟槽，其中，第一沟槽为位于抛光层表面的同心形圆周向沟槽；第二沟槽为围绕所述终点检测窗周围的闭环状沟槽；第三沟槽为分布在所述终点检测窗与所述第二沟槽之间的不连续性沟槽；所述第一沟槽与所述第二沟槽相交于所述终点检测窗外围，所述第二沟槽与所述第三沟槽彼此不相交；所述第三沟槽彼此分离且所述第三沟槽与所述第二沟槽、所述终点检测窗互不连通。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 万华化学集团电子材料有限公司 一种具有研磨一致性终点检测窗的抛光垫及其应用
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