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申请/专利权人：日本碍子株式会社
摘要：本发明提供一种利用避免掩膜层以朝向空腔延伸的檐状残留下来而不易产生颗粒的高效方法制造高品质的EUV透过膜或防护件的方法。该方法包括如下工序：准备具有第一面和第二面的基板；将第一面的整个区域和第二面的除位于中央的空腔区域以外的周边区域以掩膜层覆盖；将在空腔区域露出的基板局部蚀刻除去而形成空腔；将覆盖第一面的掩膜层蚀刻除去；在基板的空腔侧的表面及覆盖第二面的掩膜层的表面形成EUV透过膜；以及自第一面将基板蚀刻除去至EUV透过膜在与空腔相反一侧露出而使空腔区域中的EUV透过膜自立膜化。
主权项：1.一种EUV透过膜的制造方法，其中，包括如下工序：准备具有第一面和第二面的基板；将所述第一面的整个区域和所述第二面的除位于中央的空腔区域以外的周边区域以掩膜层覆盖；将在所述空腔区域露出的所述基板局部蚀刻除去，形成空腔；将覆盖所述第一面的所述掩膜层蚀刻除去；在所述基板的所述空腔侧的表面及覆盖所述第二面的所述掩膜层的表面形成EUV透过膜；以及自所述第一面将所述基板蚀刻除去至所述EUV透过膜在与所述空腔相反一侧露出，使所述空腔区域中的所述EUV透过膜自立膜化。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 日本碍子株式会社 EUV透过膜的制造方法以及防护件
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