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申请/专利权人：派镀科技(杭州)有限公司
摘要：本实用新型提供一种真空镀膜用基片输送装置，涉及输送装置技术领域，包括输送机构，所述输送机构的顶部固定安装有清洁机构，所述输送机构包括有工作台，所述工作台的外表壁开设有两组圆槽，两组所述圆槽的内表壁之间均活动插设有传动轴。本实用新型在使用中，通过在当需要对基片进行运输时，首先通过在第一电机的作用下带动传动轴旋转，同时带动传送带运动，从而带动基片向前运动，并且通过在控制器、检测装置和速度传感器的相互配合下，对传送带的运转速度进行控制，从而避免在输送过程中因为传送带的运转速度不够均匀而导致材料镀膜不够均匀，进而提高材料镀膜的质量，降低了镀膜材料的消耗极大的节约了生产成本。
主权项：1.一种真空镀膜用基片输送装置，其特征在于：包括输送机构（1），所述输送机构（1）的顶部固定安装有清洁机构（2）；所述输送机构（1）包括有工作台（101），所述工作台（101）的外表壁开设有两组圆槽（102），两组所述圆槽（102）的内表壁之间均活动插设有传动轴（103），两个所述其中一个传动轴（103）的外表壁固定套设有第一齿轮（104），所述第一齿轮（104）的外表壁啮合连接有第二齿轮（105），所述第二齿轮（105）的外表壁开设有固定槽（106），所述固定槽（106）的内表壁固定插设有第一电机（107）。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 派镀科技(杭州)有限公司 一种真空镀膜用基片输送装置
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