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一种In组分渐变的InGaN二极管及其制备方法 

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申请/专利权人:西安电子科技大学

摘要:本发明涉及一种In组分渐变的InGaN二极管及其制备方法,二极管包括:衬底层、N型层、本征层、渐变InGaN层、P型InN层、阴极和阳极,其中,衬底层、N型层、本征层、渐变InGaN层和P型InN层自下而上依次设置;渐变InGaN层中In的含量自下而上依次减小。本发明通过P型InN层作为二极管的P型区,缩短二极管的响应时间,并降低二极管的开启电压。并通过In含量渐变的渐变InGaN层,以降低P型InN层和本征层之间的晶格失配,提高P型InN层的载流子‑空穴传输效率。本发明提供的二极管在不影响反向击穿特性的同时,提高了正向特性,降低了开启电压,减小了导通电阻,大幅度提升器件的高频特性。

主权项:1.一种In组分渐变的InGaN二极管,其特征在于,包括:衬底层、N型层、本征层、渐变InGaN层、P型InN层、阴极和阳极,其中,所述衬底层、所述N型层、所述本征层、所述渐变InGaN层和所述P型InN层自下而上依次设置;所述渐变InGaN层中In的含量自下而上依次减小;所述阴极设置在所述N型层的上表面,且位于所述本征层的两侧;所述阳极设置在所述P型InN层的上表面。

全文数据:

权利要求:

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