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申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司;北京京东方技术开发有限公司
摘要：本申请实施例提供了一种掩膜框架及其制作方法、掩膜版组件，旨在提高掩膜版制造工艺的精度。掩膜框架包括：沿第一方向排布的多个第一支撑条和沿第二方向排布的多个第二支撑条，多个第一支撑条与多个第二支撑条相互交叠并围合形成多个框架开口；掩膜框架包括：第一框架区域和第二框架区域；第一支撑条与第二支撑条在第一框架区域交叠，第二框架区域围绕各框架开口；沿第三方向，第一支撑条和第二支撑条在第一框架区域的厚度之和，与第一支撑条或者第二支撑条在第二框架区域的厚度之间的差值比例小于20％；第三方向与第一方向和第二方向相互垂直；其中，在第二框架区域，第一支撑条与第二支撑条的厚度之间的差值比例小于10％。
主权项：1.一种掩膜框架，其特征在于，包括：沿第一方向排布的多个第一支撑条和沿第二方向排布的多个第二支撑条，所述多个第一支撑条与所述多个第二支撑条相互交叠并围合形成多个框架开口；所述掩膜框架包括：第一框架区域和第二框架区域；所述第一支撑条与所述第二支撑条在所述第一框架区域交叠，所述第二框架区域围绕各所述框架开口；沿第三方向，所述第一支撑条和所述第二支撑条在所述第一框架区域的厚度之和，与所述第一支撑条或者所述第二支撑条在所述第二框架区域的厚度之间的差值比例小于20％；所述第三方向与所述第一方向和所述第二方向相互垂直；其中，在所述第二框架区域，所述第一支撑条与所述第二支撑条的厚度之间的差值比例小于10％。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 成都京东方光电科技有限公司 北京京东方技术开发有限公司 一种掩膜框架及其制作方法、掩膜版组件
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