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申请/专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
摘要：本发明提供一种掩膜版清洁装置及掩膜版清洁方法，包括颗粒检测单元、显微镜、显示器及清洁单元；所述颗粒检测单元与所述显示器通信连接，所述显微镜与所述显示器通信连接，所述颗粒检测单元用于检测掩膜版表面的污染颗粒的位置，所述显微镜用于获取掩膜版表面的影像，所述显示器用于显示掩膜版表面的污染颗粒的影像，所述清洁单元用于除去掩膜版表面的污染颗粒。本发明提供了一种实时可视化的掩膜版清洁方案，实现即时清洁即时检查，提高掩膜版清洁效率。
主权项：1.一种掩膜版清洁装置，其特征在于，包括颗粒检测单元、显微镜、显示器及清洁单元；所述颗粒检测单元与所述显示器通信连接，所述显微镜与所述显示器通信连接，所述颗粒检测单元用于检测掩膜版表面的污染颗粒的位置，所述显微镜用于获取掩膜版表面的影像，所述显示器用于显示掩膜版表面的污染颗粒的影像，所述清洁单元用于除去掩膜版表面的污染颗粒。
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权利要求：
百度查询： 上海华力集成电路制造有限公司 掩膜版清洁装置及掩膜版清洁方法
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