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一种高通量分立掩膜装置 

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申请/专利权人:宁波星河材料科技有限公司

摘要:本发明涉及高通量组合材料制备系统领域,公开了一种高通量分立掩膜装置。该高通量分立掩膜装置包括:基片托架,用于放置基片,所述基片托架通过基片托架升降电机和基片托架旋转电机控制升降和旋转;掩膜机械臂,所述掩膜机械臂通过掩膜机械臂旋转电机控制旋转;掩膜支架,用于放置掩膜片,所述掩膜支架通过掩膜支架升降电机控制升降;所述基片托架,掩膜机械臂和掩膜支架依次置于一个真空腔体内,所述掩膜机械臂在掩膜支架和基片托架之间转动取放掩膜。本发明通过掩膜机械臂将原多工位精确定位转化为双工位精确定位,实现精密定位,大大减少了真空腔体尺寸。

主权项:1.一种高通量分立掩膜装置,其特征在于,包括:基片托架1,用于放置基片,所述基片托架1通过基片托架升降电机2和基片托架旋转电机3控制升降和旋转;掩膜机械臂4,所述掩膜机械臂4通过掩膜机械臂旋转电机5控制旋转;掩膜支架6,用于放置掩膜片7,所述掩膜支架6通过掩膜支架升降电机8控制升降;所述基片托架1,掩膜机械臂4和掩膜支架6依次置于一个真空腔体内,所述掩膜机械臂4在掩膜支架6和基片托架1之间转动取放掩膜;所述掩膜机械臂4位于所述基片托架1和所述掩膜支架6之间,所述掩膜机械臂旋转电机5中心到基片托架旋转电机3中心的距离与所述掩膜机械臂旋转电机5中心到掩膜支架6中心的距离相等,所述基片托架旋转电机位于所述基片托架1上方,所述掩膜机械臂旋转电机5位于所述掩膜机械臂4上方,所述掩膜支架升降电机8位于所述掩膜支架6上方,在所述高通量分立掩膜装置工作时,所述掩膜机械臂旋转电机5控制掩膜机械臂4转动到取掩膜位,然后所述掩膜支架6在所述掩膜支架升降电机8控制下带动其上的所述掩膜片7缓慢下降,所述掩膜片7下降过程中逐渐脱离所述掩膜支架6,并落在所述掩膜机械臂4上,所述掩膜机械臂4在所述掩膜机械臂旋转电机5带动下转回蒸发位,然后所述基片托架1在所述基片托架升降电机2的驱动下,缓慢下降达到蒸发位,然后可以开始打开PVD源挡板,使蒸发或溅射材料通过所述掩膜片7上的单元孔在基片上进行沉积。

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权利要求:

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